研究目的
比较两种表面精加工方法（机械金刚石抛光和化学机械抛光）对PbWO4（PWO）单晶最终结构状态及相对光产额性能的影响。
研究成果
CMP处理产生的表面非晶层比MDP处理更厚，其厚度取决于晶格取向。更光滑的CMP处理表面增强了全内反射效应，从而提高了光产额。研究表明，CMP是一种提高闪烁晶体光学性能且具有成本效益的方法。
研究不足
该研究聚焦于PWO闪烁晶体，虽然结果可推广至不同材料，但其他应用可能需特定调整?；Щ蹬坠獠姆蔷П砻娌愫穸热【鲇诰Ц袢∠?，这可能限制其在某些取向下效果。
1：实验设计与方法选择：
本研究比较了应用于PWO单晶的两种表面抛光技术MDP和CMP，并评估了其结构与光学性能。
2：样品选择与数据来源：
采用MDP和CMP技术制备了氧化铅钨（PbWO4）单晶样品，选自CMS生产系列。
3：实验设备与材料清单：
标准研磨抛光机、扫描电镜（SEM）、掠入射衍射仪（GID）、光电倍增管Photonis XP2020Q、Caen数字化仪、铯-137放射源。
4：0Q、Caen数字化仪、铯-137放射源。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：样品经MDP和CMP处理后，使用SEM和GID进行分析。光产额（LY）测量在CERN完成。
5：数据分析方法：
通过分析GID图谱研究样品表面以下深度的结构变化，通过对全能谱解卷积估算峰位后计算光产额。
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获取完整内容-
Scanning Electron Microscopy
SEM
Investigation of the surface structure of PWO crystals after polishing.
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Grazing Incidence X-ray Diffraction
GID
INEL CPS 120 diffractometer
Study of the structure variation as a function of depth below the sample surface.
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Photo Multiplier Tube
Photonis XP2020Q
Photonis s.a.s
Used in the experimental set-up for light yield measurements.
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Digitizer
Caen Digitizer
CAEN Technologies, Inc.
Used in the experimental set-up for light yield measurements.
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Cesium-137 source
CERN
Used to characterize crystals in light yield measurements.
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