研究目的
研究无p漏极电极和有p漏极电极的栅极注入晶体管(GITs)中的陷阱机制,分别称为GITs和混合漏极嵌入式GITs(HD-GITs),用于注入空穴并减少电荷捕获效应。
研究成果
在HD-GIT器件中引入p型漏极注入结构有助于在关断态和半开态下注入空穴,从而改善电流崩塌现象。这是由于HD-GIT器件具有更强的陷阱释放能力,而非热电子捕获率差异所致(其热电子捕获率与常规GIT器件相同)。此外,研究结果表明:关断态和半开态条件下填充的陷阱类型相同,其激活能(Ea=0.8 eV)与替代碳缺陷特征一致。GIT与HD-GIT器件的区别体现在半开态条件下动态导通电阻(RON)的变化幅度——脉冲测试和瞬态测量显示,HD-GIT器件更快的陷阱释放速率不仅改善了脉冲测试中的电流崩塌,还降低了半开态恒压应力下的漏极边缘发光强度。
研究不足
与原始HD-GITs不同,测试结构未设置场板以允许EL测量。因此,本文报告的电流崩塌现象比最先进的HD-GITs更为显著。此外,本文采用的半导通应力条件远比实际开关工况严苛。