研究目的
研究使用十八烷基硫醇包覆的铜纳米墨水与标准清洗-1处理基底,在喷墨图案化中实现无咖啡环效应的无分散剂胶体墨滴优化。
研究成果
对玻璃基底进行SC-1处理并用1-辛硫醇包覆铜纳米颗粒,协同提升了喷墨打印图案的均匀性和电阻率,有利于印刷电子器件。
研究不足
该研究聚焦于特定材料(1-辛硫醇包覆的铜纳米墨水及SC-1处理过的基底)的使用,在未经进一步研究的情况下,可能无法直接适用于其他材料或基底。
研究目的
研究使用十八烷基硫醇包覆的铜纳米墨水与标准清洗-1处理基底,在喷墨图案化中实现无咖啡环效应的无分散剂胶体墨滴优化。
研究成果
对玻璃基底进行SC-1处理并用1-辛硫醇包覆铜纳米颗粒,协同提升了喷墨打印图案的均匀性和电阻率,有利于印刷电子器件。
研究不足
该研究聚焦于特定材料(1-辛硫醇包覆的铜纳米墨水及SC-1处理过的基底)的使用,在未经进一步研究的情况下,可能无法直接适用于其他材料或基底。
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