研究目的
利用微球光刻结合反应离子刻蚀技术构建微米和纳米晶金刚石薄膜结构。
研究成果
微球光刻是一种极具前景的金刚石薄膜结构化技术，能够制备出高度周期性且均匀的丘状结构。该方法在纳米技术的多个领域具有潜在应用价值。
研究不足
该研究未讨论该方法在工业应用中的可扩展性或所制备结构的长期稳定性。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用四步制备工艺，包括金刚石沉积、掩模制备、掩模改性和金刚石刻蚀。
2：样品选择与数据来源：
使用聚焦微波化学气相沉积反应器在硅衬底上生长金刚石薄膜。
3：实验设备与材料清单：
包括聚焦微波化学气相沉积反应器（Aixtron P6）、聚苯乙烯（PS）微球和电容耦合等离子体系统（CCP-RIE，Phantom III，Trion Technology）。
4：6）、聚苯乙烯（PS）微球和电容耦合等离子体系统（CCP-RIE，Phantom III，Trion Technology）。 实验步骤与操作流程：
4. 实验步骤与操作流程：该过程包括金刚石沉积、通过Langmuir-Blodgett法制备PS掩模、通过反应离子刻蚀改性掩模以及金刚石刻蚀。
5：数据分析方法：
通过扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）表征表面形貌，利用拉曼光谱确定金刚石薄膜的化学特性。
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