研究目的
研究化学浴沉积法制备的多晶硒化锌薄膜的紫外敏感性以及等时退火对该材料紫外敏感性的影响。
研究成果
研究表明多晶ZnSe薄膜具有高紫外光敏感性，退火后光电流与暗电流比值急剧下降。这种下降归因于晶粒几何结构、带隙能量和晶界电荷密度的变化。沉积态样品由于具有更高的带隙能量和晶界陷阱电荷密度，表现出最强的紫外光敏感性。
研究不足
本研究仅限于采用化学浴沉积技术制备的多晶ZnSe薄膜，以及开放空气等时退火对其紫外敏感性的影响。研究结果可能不直接适用于其他形式的ZnSe或不同的沉积技术。
1：实验设计与方法选择：
采用化学浴沉积法在玻璃基底上制备ZnSe薄膜?；г∮纱姿嵝慷衔?、亚硒酸氢钠、氢氧化铵、水合肼和氢氧化钠配制而成。
2：样品选择与数据来源：
样品在开放空气中进行等时退火处理，不同温度下退火后通过扫描电镜观察表面形貌。
3：实验设备与材料清单：
蔡司EVO MA10扫描电子显微镜（SEM）、日本电子JSM-7600F场发射扫描电子显微镜、吉时利485自动量程皮安计、6W紫外灯、Cary 5000紫外-可见-近红外分光光度计。
4：实验步骤与操作流程：
沉积过程持续2小时，沉积完成后将薄膜从溶液中取出，用蒸馏水冲洗并自然干燥。随后对样品进行不同温度的退火处理。
5：数据分析方法：
测量样品的光学吸收光谱，据此获取材料的带隙能量。
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