研究目的
研究激光辐照对铜电沉积过程及镀层质量的影响。
研究成果
通过适当单脉冲能量的激光照射，可以提高沉积速率并改善涂层质量。这是由于溶液温度升高以及等离子体气泡引起的局部搅拌作用，导致溶液导电率和扩散系数增加所致。晶粒尺寸和枝晶生长方向也会受到激光照射的影响。
研究不足
该研究仅限于激光辐照对铜电沉积的影响，未探讨其他金属或材料。激光辐照的最佳单脉冲能量可能因具体条件而异。
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激光辐照对铜电沉积过程及镀层质量的影响
DOI：10.20964/2017.10.73
期刊：International Journal of Electrochemical Science
出版年份：2017
更新时间：2025-09-04 15:30:14
摘要：
本研究采用脉冲激光与电化学复合加工技术，在不锈钢基体上沉积铜涂层。通过检测机械效应与热效应，研究了电沉积过程中激光辐照的作用机制。实验对比了不同单脉冲能量激光对电沉积样品的辐照效果，利用扫描电子显微镜(SEM)观察涂层晶粒形貌，并采用UTM4000系列电子万能试验机测试其抗拉强度与延展性。结果表明：当采用适当单脉冲能量的激光辐照时，可提升沉积速率并改善涂层质量——这源于溶液温度升高及等离子体气泡引发的局部搅拌作用，使溶液导电性与扩散系数增加。同时，激光辐照还会影响枝晶的晶粒尺寸与生长方向。
作者：
Xueren Dai，Zhaoyang Zhang，Yujia Jiang，Jian Jiao，Wen Jiang
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