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由非晶态M+Ge2Se3(M=Cu、Sn)构成的光控晶体管,用于访问和连续编程忆阻器

DOI:10.1021/acsaelm.8b00034 期刊:ACS Applied Electronic Materials 出版年份:2018 更新时间:2025-09-23 15:23:52
摘要: 我们证明,由溅射非晶硫系化合物Ge2Se3/M+Ge2Se3(M=Sn或Cu)交替层构成的器件可作为光控晶体管(OGT),并用作忆阻器存储元件的选通晶体管。该晶体管仅有两个电连接端(源极和漏极),栅极受光学控制,因此仅在光照(385-1200纳米)条件下工作。OGT的开关速度低于15微秒。实验将OGT与Ge2Se3+W忆阻器串联,通过调节OGT栅极的光照强度,利用OGT的饱和电流作为编程钳位电流,可将忆阻器编程至连续的非易失性存储状态范围。由于具有连续非易失态范围,单个存储单元有望实现2?级存储。这种高密度特性结合光学可编程性,可实现电子/光子混合存储。
作者: Kristy A. Campbell,Randall A. Bassine,Md Faisal Kabir,Jeremy Astle
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研究概述 实验方案 设备清单

研究采用由非晶硫系化合物材料构成的光控晶体管(OGT)作为忆阻器存储元件的选通器件,以实现非易失态的连续编程并抑制阻变存储器阵列中的漏电流路径。

基于非晶硫系化合物材料的光控晶体管(OGT)能有效作为忆阻器的存取器件,通过光强控制实现非易失性存储状态的连续编程。该器件具有内置顺从电流限制、快速开关速度(<15微秒)以及与现有制备工艺兼容等优势。研究表明其在高密度混合电子/光子存储应用方面具有潜力,但掺杂效应、氧影响、退火处理及老化问题仍需持续研究。

实验装置存在一些局限性,例如光强探测器的放置位置不够精确、OGT薄膜随时间可能受到氧气影响(尽管未观察到)、以及由于电容较大而在脉冲测试中使用较长脉宽(这可能无法反映器件的全速性能)。此外,OGT的性能对电极间光照位置的依赖性可能是非集成电路中的一个限制因素。

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