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用于CMOS太赫兹天线阵列增益增强的单倒装芯片封装介质谐振器天线

DOI:10.1109/ACCESS.2018.2890678 期刊:IEEE Access 出版年份:2019 更新时间:2025-09-23 15:23:52
摘要: 本研究提出了一种介质谐振器天线(DRA),可提升采用0.18微米CMOS工艺实现的2×2太赫兹天线阵列中每个单元的天线增益。该DRA采用低成本集成无源器件(IPD)技术制造,并通过低损耗金凸点倒装焊封装至CMOS天线阵列芯片上。通过设计DRA工作于TE3,δ,9高阶模式,仅需单个DRA(传统方案需四个)即可同步提升2×2天线阵列各单元的增益。这不仅简化了组装流程,还能降低装配成本。此外,由于采用高阻硅材料及高阶模式工作,该DRA能显著增强天线增益。仿真显示,在添加DRA后,2×2 CMOS天线阵列中每个贴片天线在339 GHz频段的增益可从0.1 dBi提升至8.6 dBi。为表征所提DRA,设计了四个相同的功率检测器(PD)分别与2×2太赫兹天线阵列各单元集成。通过测量各PD输出的电压响应度,可获得带DRA天线阵列的增益提升水平与辐射方向图等特性。测量结果与仿真高度吻合,验证了DRA的工作原理。搭载该DRA的四个PD还成功应用于340 GHz太赫兹成像系统演示。据作者所知,该DRA是目前报道中工作于太赫兹频段最高阶模式的器件。
作者: Chun-Hsing Li,Te-Yen Chiu
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研究概述 实验方案 设备清单

提出并验证一种单介质谐振天线(DRA),该天线利用CMOS技术提升2×2太赫兹天线阵列中每个单元的天线增益,旨在通过高阶模工作实现高增益的同时简化组装并降低成本。

所提出的单DRA(介质谐振天线)在TE3,δ,9模式下运行,成功提升了2×2 CMOS太赫兹阵列中每个单元的天线增益,经测量较传统片上天线的增益提高了7分贝。该方案简化了组装流程并降低成本,其效果已通过仿真与实验验证。该DRA使实用的太赫兹成像应用成为可能,展现出提升太赫兹系统性能的潜力。

测量装置对校准敏感,会导致结果出现差异。锁相放大器将斩波频率限制在1千赫兹,从而限制了噪声等效功率(NEP)的提升。分布式辐射阵列(DRA)的尺寸受集成无源器件(IPD)技术的限制,可能会制约更高增益方案的选择。组装时的错位可能会影响性能。

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