研究目的
报道具有改进的外在渡越频率(fT)和最大振荡频率(fmax)的石墨烯场效应晶体管(GFETs)的性能及其随栅极长度的缩放行为。
研究成果
在栅长Lg=0.5微米时实现了具有高外禀频率值fT=34吉赫兹和fmax=37吉赫兹的石墨烯场效应晶体管,展现出改进的缩放特性。性能提升源于通过工艺改进最小化外禀限制因素。分析表明,进一步优化可使栅长小于100纳米时的fmax超过100吉赫兹,从而使石墨烯场效应晶体管适用于高频应用领域。
研究不足
与相同栅极长度的某些硅基MOSFET相比,GFET的性能仍有差距。若要与更短栅极长度的硅基MOSFET竞争,还需进一步优化,例如提高饱和速度、减薄栅氧化层厚度、降低栅极电阻以及接触区的接触电阻。
1:实验设计与方法选择:
本研究设计并制备了双指栅极GFET器件,通过改进工艺流程以提升fmax和fT参数。采用小信号等效电路模型进行仿真分析性能表现。
2:样品选择与数据来源:
使用霍尔迁移率高达7000 cm2/Vs的高质量化学气相沉积(CVD)石墨烯。器件制备于不同栅长和栅宽的高阻硅/二氧化硅衬底上。
3:实验设备与材料清单:
设备包括用于直流测量的Keithley 2612B双通道源表和用于交流测量的Agilent N5230A网络分析仪。材料包含石墨烯、?;げ鉇l2O3、接触电极Ti/Pd/Au以及栅电极Au。
4:接触电极Ti/Pd/Au以及栅电极Au。
实验流程与操作步骤:
4. 实验流程与操作步骤:制备过程包括将石墨烯转移至衬底、沉积?;ば訟l2O3层、通过电子束光刻和刻蚀图案化石墨烯台面与接触区、制备金属接触、采用原子层沉积加厚栅氧化层以及形成栅电极。测量项目包含直流特性表征和1-50GHz频段的S参数测试。
5:3层、通过电子束光刻和刻蚀图案化石墨烯台面与接触区、制备金属接触、采用原子层沉积加厚栅氧化层以及形成栅电极。测量项目包含直流特性表征和1-50GHz频段的S参数测试。
数据分析方法:
5. 数据分析方法:通过漏极电阻模型估算接触电阻、迁移率和载流子浓度。利用S参数计算小信号增益和频率特性?;诘刃У缏纺P徒蟹抡嬖げ庑阅鼙硐?。
独家科研数据包,助您复现前沿成果,加速创新突破
获取完整内容