研究目的
研究纳米晶Hg1-xMnxO稀磁半导体薄膜的结构、光学及形貌特性，以探索其在纳米级光学和磁光器件中的潜在应用。
研究成果
纳米晶Hg1-xMnxO薄膜呈现六方结构，随着锰掺杂量的增加，其折射率降低而带隙增大，使其适用于光学和磁光应用。未来工作应包括详细的磁性表征。
研究不足
该研究仅限于锰浓度x=0.2以下；表面粗糙度和薄膜均匀性可能影响器件性能；本文未充分探究磁性特性。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用电子束沉积法制备薄膜，通过XRD、SE和AFM分别分析晶体结构、光学特性和表面形貌。
2：样品选择与数据来源：
采用固相反应法制备x=0、0.015、0.05、0.10、0.2的Hg1-xMnO多晶块体样品，并沉积于康宁玻璃基底。
3：2的Hg1-xMnO多晶块体样品，并沉积于康宁玻璃基底。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：高纯度HgO和MnO粉末、微量天平、球磨机、电子束蒸发系统、XRD衍射仪、原子力显微镜、光谱椭偏仪。
4：实验流程与操作步骤：
样品经研磨、压片后沉积；在特定角度和波长下进行XRD、AFM及SE测量；使用Gwyddion和Complete EASE软件分析数据。
5：数据分析方法：
XRD分析晶体结构，AFM测定晶粒尺寸与粗糙度，SE结合光学模型和导数技术获取介电常数及带隙参数。
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