研究目的
开发一种适用于多晶硅薄膜的原位热扩散率测试结构及方法,该方法与MEMS制造和工艺控制监测兼容,且无需额外工艺或严苛的环境条件。
研究成果
原位测试方法可行,与集成电路制造中的PCM兼容,在正常条件下能为导电薄膜提供可靠的热扩散率测量数据,并可通过潜在改进适用于非导电材料。
研究不足
该方法不适用于非导电材料或电阻极高的材料。其假设了一个理想的热沉基底,且可能受到工艺变化的影响。
研究目的
开发一种适用于多晶硅薄膜的原位热扩散率测试结构及方法,该方法与MEMS制造和工艺控制监测兼容,且无需额外工艺或严苛的环境条件。
研究成果
原位测试方法可行,与集成电路制造中的PCM兼容,在正常条件下能为导电薄膜提供可靠的热扩散率测量数据,并可通过潜在改进适用于非导电材料。
研究不足
该方法不适用于非导电材料或电阻极高的材料。其假设了一个理想的热沉基底,且可能受到工艺变化的影响。
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