研究目的
制备并评估掺杂Yb和Ag的Ta2O5薄膜的光致发光特性，因其980 nm发射波段具有良好的生物体穿透性，有望应用于实时X射线剂量计系统。
研究成果
掺杂银元素显著增强了Ta2O5:Yb薄膜中980纳米处的光致发光峰，这归因于Ag2Ta8O21和正交相Ta2O5晶体相的存在。这使得该薄膜在实时X射线剂量测定应用中具有良好前景。未来工作应着重阐明其增强机制。
研究不足
该研究仅限于特定的退火温度和时间；银掺杂增强光致发光的机制尚未完全明确，需进一步探究。潜在优化方案包括改变掺杂浓度及探索其他退火条件。
1：实验设计与方法选择：
采用射频磁控共溅射法沉积薄膜，随后在不同温度下进行空气退火以研究光致发光增强效应与结晶性。
2：样品选择与数据来源：
薄膜沉积于熔融石英基底；样品分别在700、800、900和1000°C退火20分钟。
3：900和1000°C退火20分钟。 实验设备与材料清单：
3. 实验设备与材料清单：射频磁控溅射系统（ULVAC，SH-350-SE）、Ta2O5圆盘靶、Yb2O3颗粒、银四分之一颗粒、氩气、熔融石英基底、电炉（Denken，KDF S-70）、表面轮廓仪（ULVAC，Dektak 3ST）、双光栅单色仪（Roper Scientific，SpectraPro 2150i）、CCD探测器（Roper Scientific，Pixis:100B）、氦镉激光器（Kimmon，IK3251R-F）、X射线衍射仪（RIGAKU，RINT2200VF+/PC系统）。
4：0）、表面轮廓仪（ULVAC，Dektak 3ST）、双光栅单色仪（Roper Scientific，SpectraPro 2150i）、CCD探测器（Roper Scientific，Pixis:
4. 实验流程与操作步骤：通过特定参数（氩气流速15 sccm，射频功率200 W）溅射沉积薄膜，对薄膜进行退火处理，测量膜厚，采用325 nm激发波长进行光致发光光谱测试，并开展XRD测量。
5：实验流程与操作步骤：
5. 数据分析方法：分析光致发光光谱的峰强度与波长，以及XRD图谱的晶相组成，将其与光致发光增强效应相关联。
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He-Cd laser
IK3251R-F
Kimmon
Excitation source for PL measurements.
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X-ray diffractometer
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RIGAKU
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Furuuchi Chemical Corporation
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KDF S-70
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