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光学显微镜揭示了石墨烯的快速、可逆电化学氧化与还原过程

DOI:10.1021/acs.nanolett.8b04216 期刊:Nano Letters 出版年份:2019 更新时间:2025-09-24 04:29:15
摘要: 我们通过干涉反射光学显微镜揭示了单层石墨烯在电化学氧化与还原过程中的反应动力学。在300纳米空间分辨率和200毫秒时间分辨率下,我们观测到石墨烯的快速电化学氧化过程及其高效还原为未氧化态的现象。研究发现1.4伏(相对于Ag/AgCl参比电极)为氧化起始电压,并证实该过程由水电解产生的自由基驱动,因此可通过自由基捕获分子完全抑制。此外,氧化过程在纳米尺度上呈现空间异质性,具有缺陷依赖性和历史依赖性特征,并表现出二维体系特有的自限效应。我们进一步证明电化学还原能以可控方式将氧化石墨烯快速逆转为未氧化态,且还原速率强烈依赖于还原电压与pH值,由此得出还原过程中质子与电子存在一一对应关系。除阐明石墨烯的电化学反应机制外,本研究还为通过电化学方法可控生成及精细调控石墨烯衍生物开辟了新途径。
作者: Wan Li,Michal Wojcik,Ke Xu
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研究概述 实验方案 设备清单

以高时空分辨率揭示单层石墨烯在电化学氧化还原过程中的反应动力学,解答关于起始电压、反应速度、可抑制性、可逆性及反应机制的问题。

石墨烯的电化学氧化与还原过程快速、可逆,由水电解产生的自由基驱动,起始电压为1.4伏特。氧化反应具有空间异质性、缺陷依赖性,并因电导率变化而呈现自限性?;乖从υ蚴艿缪购蚿H值影响,表明其质子-电子比为1:1。该特性可实现石墨烯衍生物的精准调控。

该研究仅限于特定电解质条件下的单层CVD石墨烯;结果可能不适用于其他形式的石墨烯或电解质。自限效应和异质性可能使均匀氧化复杂化。使用Co2+进行抑制时受到氧化钴沉积物的干扰。尽管时空分辨率较高,但仍受IRM装置设置的限制。

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