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原子层沉积法制备的TiO2@聚合物与TiO2@碳气凝胶复合材料的催化光催化性能

DOI:10.1016/j.carbon.2019.02.076 期刊:Carbon 出版年份:2019 更新时间:2025-11-20 15:33:11
摘要: 采用间苯二酚-甲醛聚合物气凝胶(RFA)及其碳气凝胶(RFCA)衍生物制备了整体式结构的TiO?/气凝胶复合材料。通过溶胶-凝胶反应合成间苯二酚-甲醛水凝胶,再经超临界干燥转化为聚合物气凝胶。将RFA在干燥氮气中900°C热解制得碳气凝胶。分别以TiCl?和H?O为前驱体,在80°C和250°C下通过原子层沉积(ALD)技术在RFA和RFCA表面生长非晶态与晶态TiO?层。采用N?吸附、TG/DTA-MS、拉曼、SEM-EDX和TEM技术对基底及复合材料进行研究,并比较了它们在紫外光催化降解甲基橙染料反应中的光催化活性。
作者: Nóra Justh,Gerg? János Mikula,László Péter Bakos,Balázs Nagy,Krisztina László,Bence Parditka,Zoltán Erdélyi,Viktor Takáts,János Mizsei,Imre Miklós Szilágyi
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研究概述 实验方案 设备清单

采用原子层沉积法制备并表征TiO2@聚合物和TiO2@碳气凝胶复合材料,用于光催化应用,特别是在紫外光下降解甲基橙染料。

在RFA和RFCA气凝胶上通过原子层沉积(ALD)制备的TiO?层增强了光催化活性,其中非晶态TiO?展现出意想不到的光催化性能。单独的碳气凝胶由于具有高比表面积而表现出显著活性。补偿比表面积减少和热处理效应后,证实了TiO?涂层对光催化性能的提升作用。低温ALD法制备的非晶态TiO?在涂覆热敏性基底方面具有很高潜力。

该研究的局限性包括:原子层沉积(ALD)在较高温度下可能对基底造成损伤、二氧化钛沉积后比表面积减小,以及由于二氧化钛含量过低导致X射线衍射(XRD)中无法检测到其特征峰。光催化机制可能受到比表面积和官能团等多种因素的影响。

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