利用排斥磁场辅助的激光诱导等离子体微加工实现高质量微制造

摘要： 表面微/纳结构广泛应用于各类功能微系统的制备中。与激光直写相比，激光诱导等离子体微加工能显著改善重铸层和热缺陷方面的表面质量。磁场具有约束等离子体扩散的能力，可确保激光诱导等离子体加工的稳定性。本文比较了单晶硅在微/纳米尺度下激光直写加工与激光诱导等离子体加工的效果，并重点分析了排斥磁场辅助激光诱导等离子体微加工的材料去除机制。研究表明，在洛伦兹力作用下激光诱导等离子体的体积受到约束，获得了无热缺陷的高质量光滑微沟槽，其线宽减小了30%。