利用断层扫描穆勒矩阵散射计量术测量纳米结构

摘要： 纳米尺度下必要仪器与计量技术的发展，尤其是快速、低成本且无损的计量技术，对实现可靠且可重复的纳米制造具有重要意义。本工作展示了我们自主研发的新型光学散射仪——层析穆勒矩阵散射仪（TMS）在光刻胶光栅测量中的应用。该仪器采用双旋转补偿器配置，通过平面波依次在不同照明方向下照射待测纳米结构并记录数据。每个照明方向下，沿各观测方向的偏振散射场均以散射穆勒矩阵形式呈现。相比传统光学散射测量法，TMS能采集更丰富的散射信息，从而确保更高的测量灵敏度与精度。我们还证实了TMS具备测定光栅间距及其他结构参数的能力，这是当前基于反射计或椭偏仪的零阶散射测量方法所无法实现的。