研究目的
开发和应用层析穆勒矩阵散射仪（TMS），用于纳米结构（特别是光刻胶光栅）的精确测量，以克服传统光学散射测量方法的局限性。
研究成果
与商用MME和SEM相比，TMS能以良好精度有效测量光刻胶光栅参数，证明其具备测定间距及其他结构参数的能力——这是零阶方法无法实现的。精确的间距测量对可靠提取参数至关重要。
研究不足
TMS仅适用于周期性结构，且需要精确的间距测量；由于样品不均匀性、光学像差和退偏振效应，可能会产生误差。间距测量的范围受波长限制（例如，Littrow方法要求间距必须大于λ/2）。
1：实验设计与方法选择：
该太赫兹穆勒矩阵系统（TMS）采用双旋转补偿器配置，通过不同方向的入射光照射样品并采集偏振散射场作为穆勒矩阵数据。利用严格耦合波分析（RCWA）与Levenberg-Marquardt算法进行逆向建模以实现参数提取。
2：样品选择与数据来源：
使用位于BARC层和硅衬底上的光刻胶光栅，提供标称尺寸参数。光学常数引自文献数据，并通过商用穆勒矩阵椭偏仪预先测定。
3：实验设备与材料清单：
包含光源、透镜、滤光片、偏振器、补偿器、分束器、物镜、探测器及样品组件等，具体配置详见实验装置说明。
4：实验流程与操作规范：
TMS系统扫描入射方向（入射角0°至65.6°，方位角0°至360°），记录散射场数据，并采用利特罗构型进行周期测量。通过数据分析拟合结构参数。
5：6°，方位角0°至360°），记录散射场数据，并采用利特罗构型进行周期测量。通过数据分析拟合结构参数。 数据分析方法：
5. 数据分析方法：采用加权最小二乘回归法最小化实测与计算穆勒矩阵的差异，从而提取周期、顶部临界尺寸、高度、侧壁角度及顶部圆角半径等参数。
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