- 标题
- 摘要
- 关键词
- 实验方案
- 产品
-
碳化硅环形抛光参数的实验优化
摘要： 机械加工表面质量对碳化硅基元件和器件的功能性具有重要影响。本研究首先基于普雷斯顿方程解析研究了环形抛光中运动的复杂耦合关系，该方程推导出了影响材料去除的关键参数。随后，我们系统开展了反应烧结碳化硅的环形抛光实验，探究所推导参数对抛光表面质量的影响，从而获得了实现反应烧结碳化硅超低表面粗糙度的优化抛光参数。
关键词： 碳化硅、抛光参数、环形抛光、普雷斯顿方程、表面粗糙度
更新于2025-09-23 15:21:21
-
光学制造材料科学与技术 || 材料去除率
摘要： 本章讨论光学加工四大主要特性中的最后一个——材料去除率（见图1.6）。如第一章所述，宏观材料去除率遵循普雷斯顿方程（公式(1.3)），其中去除率大致与施加压力和相对速度呈线性关系，所有工艺和材料参数都归入普雷斯顿系数kp。该方程既适用于第五章第一节讨论的研磨工艺，也适用于第五章第二节的抛光工艺?？刂撇牧先コ始捌渌砻娲植诙鹊牟问芮邢喙?。因此，在讨论抛光材料去除率时，可基本沿用第四章所述的集合赫兹多间隙(EHMG)模型与岛状分布间隙(IDG)模型的原理。
关键词： 光学加工，IDG模型，材料去除率，普雷斯顿方程，研磨，抛光，EHMG模型
更新于2025-09-10 09:29:36
-
光学制造材料科学与技术 || 表面面形
摘要： 如第1.2节所述，最终光学元件的主要特征之一是表面面形（即工件的长程表面形状）。实现理想的面形是光学元件制造的主要目标，因为面形会影响入射光在透射和反射时的波前修正。从最基本的层面来说，在不考虑残余应力变化的情况下，工件的最终表面面形仅由其初始表面形状以及工件表面各点被去除的材料量决定。因此，要定量（即确定性）地确定特定精加工过程中面形的演变，就必须了解所有影响材料去除率的现象及其随时间的变化规律。描述和组织这些现象的一个有效方法是扩展传统的材料去除率普雷斯顿方程（公式(1.3)）。普雷斯顿方程可以更一般化地表述如下：[1]
关键词： 材料去除率、普雷斯顿方程、表面面形、光学加工、抛光
更新于2025-09-09 09:28:46