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oe1(光电查) - 科学论文

27 条数据
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  • 通过减少运行间变异实现协调：间接免疫荧光法检测抗核抗体质量保证计划的性能评估

    摘要： 背景：若通过严格的质量保证计划进行管控，自动化抗核抗体（ANA）间接免疫荧光（IIF）分析技术的引入可能实现更标准化的ANA IIF报告。本研究旨在评估ANA IIF分析中使用的各类质量指标，最终目标是优化室内质量控制（iQC）方案。 方法：在实验设置中，我们在QUANTA-Lyser-NOVA View?系统（美国加州圣地亚哥Inova Diagnostics公司）上模拟常规操作中可能出现的异常情况并人为引入误差。将预设质量指标与既定验收标准进行比对评估。此外，我们回顾性研究了选定质量指标在三个预设时间段日常实践中的适用性。 结果：实验研究与回顾性研究均表明，公司内部质控（iQC）材料未能有效识别分析前、分析中及分析后误差。采用患者来源的iQC样本、每批次检测的中位荧光强度结果以及ANA IIF阳性结果百分比作为补充质量指标，能确保更完善的ANA IIF质量保证。此外，阴性与中度阳性样本的iQC材料需进行临床验证——因为滴度变化>1即代表具有临床意义的显著改变。包含临床定义停止限的传统Westgard规则，被证实能有效监测这些补充质量指标。 结论：要实现日常实践中的全面ANA IIF质量保证，必须在明确定义的验收标准基础上增加补充质量指标。

    关键词： 自动化、间接免疫荧光法、抗核抗体、质量控制

    更新于2025-09-23 15:23:52

  • 68Ga制剂放射化学纯度测定的复杂性：离子态68Ga物种在反相色谱柱上吸附的可能性

    摘要： 比较了采用不同薄层色谱（TLC）和高效液相色谱（HPLC）方法研究68Ga放射性药物的结果。所获数据可靠表明，在特定条件下，部分68Ga离子形态会不可逆地吸附于C18反相色谱柱上。分析过程中68Ga离子形态的损失率可达90%。该损失随制剂pH值升高而加剧：当pH为2.5-3.0时，色谱柱上68Ga离子形态总损失不超过15%；pH为4.0时平均损失达65±7%；pH为6.0时则高达87±8%。分析任何68Ga放射性药物时均需考虑此效应。

    关键词： 放射化学纯度、放射性药物、吸附、络合、高效液相色谱、质量控制、色谱法、镓-68

    更新于2025-09-23 15:22:29

  • 七种数字乳腺断层合成质量控制体模的实验评估

    摘要： 关键词：乳腺、诊断影像学、数字乳腺断层合成摄影、质量控制、筛查。目的：法国当局预计将数字乳腺断层合成摄影（DBT）引入本国乳腺癌筛查项目。本研究旨在评估可作为内部质量控制的影像质控模体。方法：在五台不同品牌的DBT系统上，对七种专用于乳腺X线摄影质量控制的模体（ACR Model 015、BR3D、DBT QC model 021、Mam/Digi-EPQC、MTM100、TOMOMAM?和TOMOPHAN?）的重建DBT图像进行评估。研究两种代表性DBT图像参数：当模体含插入物时，由三位观察者分析图像评分和z轴分辨率。结果：MTM100、Mam/Digi-EPQC、BR3D、DBT QC model 021模体的图像存在影响评分的伪影；ACR Model 015、TOMOMAM?和TOMOPHAN?模体适用于DBT图像评分分析。除TOMOMAM?模体使用铝珠外，所有模体的z轴分辨率结果均因饱和伪影与理论值不符。结论：应鼓励模体制造商与DBT系统厂商合作，设计适用于所有系统的通用模体以实现更全面的质量控制。本研究提出理想通用DBT内部质控模体的若干规范：需支持灵敏的图像评分测量；背景结构应真实以避免伪影；模体应具有标准乳腺形态与尺寸。

    关键词： 乳腺，数字乳腺断层合成摄影，筛查，诊断成像，质量控制

    更新于2025-09-23 15:22:29

  • [2018年IEEE第38届电子与纳米技术国际会议（ELNANO）- 基辅（2018.4.24-2018.4.26）] 2018年IEEE第38届电子与纳米技术国际会议（ELNANO）- 数字断层合成中用于重建质量控制的模拟体模投影

    摘要： 采用IMASIM软件生成用于数字断层合成质量控制的一组X射线投影。使用X射线断层合成成像设备获取相同尺寸的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）模体的对应投影。通过特制的基准标记珠模体测量成像系统各元件的相对位置。实测投影与模拟投影、重建切片之间具有良好的一致性。能够创建具有预定义缺陷的模拟投影，为分析断层合成的整体性能提供了重要价值。

    关键词： X射线应用、数字X射线断层合成、质量控制、生物医学成像、数值模拟

    更新于2025-09-23 15:22:29

  • [2018年IEEE亚洲创新智能电网技术会议（ISGT Asia）- 新加坡（2018年5月22日-2018年5月25日）] 2018 IEEE亚洲创新智能电网技术会议（ISGT Asia）- 太阳辐照度数据质量控制

    摘要： 随着传感技术的出现，高分辨率数据在各类智能电网应用中已无处不在。这些数据虽能提供宝贵的实证依据，但几乎总是（即便并非全部）存在显著的测量不确定性。然而，目前也缺乏对这些数据进行质量控制的标准化流程。有鉴于此，本文研究了广为人知的基线太阳辐射网络（BSRN）数据集。该网络存档了全球60个站点（主要）长达二十余年的1分钟间隔太阳辐照度数据。文中展示了利用BSRN数据实施的六步质量控制流程。

    关键词： 太阳辐照度、质量控制、BSRN（ Baseline Surface Radiation Network，基线地表辐射网络）

    更新于2025-09-23 15:21:21

  • 用于测量轴对称物体尺寸和表面轮廓的逆向投影条纹技术

    摘要： 提出了一种基于模拟投影仪-部分相机系统的逆向投影条纹技术，用于轴对称零件的在机检测。本研究涉及的零件尺寸较大、表面高反光且具有陡峭斜面。通过基于计算机模拟的方法及零件CAD模型生成逆向条纹，并找到穿过零件对称轴的最佳信噪比轨迹。该技术以基准件为参照进行测量，在径向尺寸约10厘米的零件上实现了优于10微米的精度。研究表明，与标准条纹投影技术相比，本方法尤其在陡峭斜面区域显著提升了系统信噪比和重复性。

    关键词： 条纹投影、结构光、逆向条纹投影、光学计量、质量控制

    更新于2025-09-23 15:21:01

  • 利用基质辅助激光解吸/电离质谱法对药食两用植物多糖进行快速质量控制

    摘要： 具有多种生物活性和健康益处的药食两用植物（MFDPPP）多糖已在医疗、畜牧和化妆品等多个领域广泛应用。然而迄今为止，MFDPPP的质量问题及多糖分析技术仍对化学家构成挑战。本研究报道了一种基于基质辅助激光解吸/电离质谱（MALDI-MS）的快速高通量质量控制方法：针对非法添加和掺杂检测，筛选出四氧化三铁纳米颗粒作为MALDI基质以避免小分子干扰——定性分析显示该方法对违禁药物和葡萄糖均具有高灵敏度；定量分析以葡萄糖为例，在0.005-1 mg·mL-1浓度范围内获得最佳线性响应（R2>0.99）。对于多糖分析，采用2,5-二羟基苯甲酸/N-甲基苯胺作为MALDI基质以提高检测灵敏度和质量范围覆盖度。该方法成功应用于黄芪多糖和香菇多糖实际样品补充剂的分析，展现出其在MFDPPP质量控制中的潜力。

    关键词： 药食两用植物、基质辅助激光解吸电离质谱、非法掺假、质量控制、多糖

    更新于2025-09-23 15:19:57

  • 利用激光多普勒振动法无损鉴别牛油果果实成熟度

    摘要： 消费者对即食牛油果的需求日益增长，但若供应量未达预期就会引发投诉，造成巨大成本与浪费。在牛油果行业，破坏性检测及硬度评估不准确导致的损耗相当严重。本研究旨在评估非破坏性激光多普勒振动测量技术（LDV）能否用于判断牛油果成熟度。数据来自两项试验：分别使用采自智利和西班牙的呼吸跃变前"哈斯"牛油果，在12℃和18℃条件下催熟。在货架期期间记录标准力-形变测量值以及单次或同步双振动时间信号，并与呼吸速率和非结构性碳水化合物含量进行对照分析。通过LDV测得的果实共振频率在成熟过程中下降2至4倍，这与硬度同步降低（253N至2N）相对应。研究证实该LDV系统能无损区分不同成熟阶段。

    关键词： 质量控制，鳄梨，甘露七糖，脉冲响应，硬度

    更新于2025-09-23 15:19:57

  • 采用光阻法降低检测体积的注射剂不溶性微粒试验可行性实验室间比对研究

    摘要： 药典中注射剂不溶性微粒检测是注射用药品的强制性要求。该光阻法检测需取至少5毫升样品进行四次测定。随着小剂量治疗性蛋白注射剂日益普及，降低检测体积的需求日益增长。本协作研究采用2、5、10及25微米聚苯乙烯计数标准颗粒，评估较小检测体积对微粒计数准确性和精密度的 影响，以验证减少样品体积的可行性。所有检测体积均获得良好准确度（3000颗粒/毫升±10%），且5毫升与1毫升检测间的运行间变异系数（RSD）水平相当。虽然0.2毫升检测时运行间变异系数有所增加，但仍低于5%。结果表明光阻法适用于5毫升至0.2毫升检测范围，且可有效监测≥2微米的微粒。

    关键词： 不溶性微粒、质量控制、减量法、不溶性微粒检测、光阻法

    更新于2025-09-23 06:41:59

  • [2019年IEEE第八届先进光电子与激光国际会议(CAOL) - 保加利亚索佐波尔(2019.9.6-2019.9.8)] 2019年IEEE第八届先进光电子与激光国际会议(CAOL) - CUSUM控制图的理论基础与应用

    摘要： 本文提出了理论依据，并展示了如何利用CUSUM控制图识别由非随机值影响导致的过程异常。通过对比带V型掩模的CUSUM控制图与经典均值Shewhart控制图对设定水平偏移的灵敏度，研究发现：与Shewhart控制图不同，CUSUM控制图对过程设定水平的微小偏移更为敏感。但CUSUM控制图和X控制图存在共同缺陷——它们检测过程异常时均存在一定时间延迟。

    关键词： 质量控制、灵敏度、累积和控制图、V型掩模、校准、控制限、工艺流程

    更新于2025-09-19 17:13:59