在熔融石英透明基底上制备粘附且无裂纹的SU-8光刻胶衍生碳MEMS的方法与工艺

摘要： 我们提出了一种基于透明熔融石英基底上沉积SU-8光刻胶的光图案化碳膜制备方法。具体而言，我们针对SU-8 2035和SU-8 3035衍生碳微结构的制备开发并实施了该方法。研究发现：SU-8 3035衍生的碳微结构无裂纹且与基底结合良好，而SU-8 2035则导致碳微结构断裂脱落。此外，我们通过测量电阻率（1.412±0.011 mΩ·m）、结构间电阻、接触角（35.7°±6.0°）、拉曼光谱及基底粘附强度等参数对SU-8 3035衍生碳进行了表征。简言之，尽管SU-8 2035和SU-8 3035都是C-MEMS制备的适用材料，但SU-8 3035更适用于在透明熔融石英基底上制备无裂纹且结合牢固的碳微结构。