研究目的
开发一种基于在透明熔融石英基板上沉积SU-8的光刻图案化碳膜制备方法，解决热解光刻胶薄膜（PPF）在适用于热解的常见透明基底上出现开裂和粘附性差的问题。
研究成果
研究表明，与SU-8 2035相比，SU-8 3035更适合在透明熔融石英基底上制备无裂纹且附着性良好的碳微结构。所得材料具有低电阻率、亲水接触角和良好附着力等理想特性，使其在需要光学透明性的应用中颇具吸引力。
研究不足
该方法在SU-8 2035材料上显示出局限性，导致碳微结构出现断裂和脱落，而SU-8 3035则能制备出无裂纹且附着良好的结构。热解前与基底的粘附强度可能影响制备的成功率。
1：实验设计与方法选择：
该方法涉及在熔融石英基底上利用SU-8 2035和SU-8 3035光刻胶制备碳微结构，随后进行热解处理。
2：样本选择与数据来源：
选用熔融石英基底因其光学透明性及高熔点特性；选择SU-8 2035和SU-8 3035光刻胶因其光刻图案化能力及适用于微结构制备的特性。
3：实验设备与材料清单：
包括用于热解的石英管式炉、用于图案化的无掩模光刻系统，以及SU-8光刻胶和熔融石英基底等材料。
4：实验流程与操作步骤：
包含基底预处理、光刻胶涂覆、软烘、光刻图案化、曝光后烘烤、显影、最终烘烤及氮气氛围下的热解过程。
5：数据分析方法：
通过测量电阻率、结构间电阻、接触角、拉曼光谱及粘附强度来表征所制备的碳微结构。
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SU-8 2035
2035
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Photoresist for microfabrication
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SU-8 3035
3035
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Photoresist for microfabrication
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