- 标题
- 摘要
- 关键词
- 实验方案
- 产品
-
超薄镍薄膜的特性
摘要: 通过在熔融石英基底上采用射频溅射法制备了导电且透明的超薄镍薄膜。通过拟合多角度分光光度计和椭偏仪数据,获得了镍薄膜的特性参数(厚度、折射率和消光系数)。X射线反射(XRR)测量推断的薄膜厚度与椭偏仪结果高度吻合。X射线光电子能谱(XPS)分析表明,薄膜表面同时存在镍金属相和镍混合氧化物相,这解释了此类薄膜具有高电稳定性的原因。
关键词: 光学测量、超薄膜、透明导电薄膜、镍薄膜
更新于2025-09-23 15:23:52
-
[网络与系统讲义] 工程研究与技术应用进展 第63卷(国际会议ICERA 2018论文集)|| 直流放电与HiPIMS放电的比较及其在镍薄膜制备中的应用
摘要: 本研究对比了直流(DC)与高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)两种工艺。我们首先指出,直流放电产生的等离子体主要由气态物质组成,而HiPIMS放电则形成以金属蒸气为主导的等离子体,其特点是存在大量强电离且低能量的带电粒子。对于镍(Ni)薄膜而言,采用HiPIMS工艺能制备出密度更高、结晶更完善的镀层,从而提升复杂几何形状基底上涂层的均匀性。
关键词: 镍薄膜,高功率脉冲磁控溅射,磁控溅射
更新于2025-09-23 15:21:01