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oe1(光电查) - 科学论文

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  • 前驱体流速对PACVD法沉积的a-C:H:SiO<sub>x</sub>薄膜物理力学性能的影响

    摘要: 本文介绍了在氩气与聚苯基甲基硅氧烷(PPMS)蒸气混合气体中,通过施加脉冲双极偏压于基底,采用等离子体活化化学气相沉积法制备a-C:H:SiOx薄膜的过程。论文探讨了沉积薄膜的物理力学性能与PPMS前驱体流速的依赖关系。利用傅里叶变换红外光谱和拉曼光谱确定了沉积薄膜的结构。采用纳米压痕法对a-C:H:SiOx薄膜的力学性能(硬度和弹性模量)进行表征,并通过硬度与弹性模量评估其耐久性(H/E)和抗塑性变形能力(H3/E2)。基于加载-卸载曲线计算弹性恢复率。研究表明:当PPMS流速在35-287微升/分钟范围内增加时,薄膜沉积速率从17提升至221纳米/分钟,且在此过程中硬度、弹性模量及弹性恢复率等力学性能均未劣化。当流速为175微升/分钟时,耐久性和抗塑性变形能力达到最大值,分别为0.12和203兆帕。

    关键词: PPMS(原位磁化率测量系统)、a-C:H:SiOx薄膜、PACVD(等离子体增强化学气相沉积)、力学性能、纳米压痕

    更新于2025-09-09 09:28:46