研究目的
为研究采用聚苯基甲基硅氧烷（PPMS）作为前驱体、通过等离子体增强化学气相沉积（PACVD）法制备的a-C:H:SiOx薄膜的物理力学性能对PPMS流速的依赖性。
研究成果
a-C:H:SiOx薄膜的沉积速率随PPMS流量增加而提高，且力学性能未出现显著劣化。当PPMS流量为175微升/分钟时，材料达到最大耐久能力与抗塑性变形性能。
研究不足
本研究仅限于PPMS流速对a-C:H:SiOx薄膜物理力学性能的影响，未探究其他沉积参数及其相互作用。
1：实验设计与方法选择：
采用等离子体活化化学气相沉积（PACVD）技术在氩气与聚苯基甲基硅氧烷（PPMS）蒸气的混合气氛中沉积a-C:H:SiOx薄膜，同时对基底施加脉冲双极偏压。
2：样品选择与数据来源：
以单晶硅（100）晶圆作为基底。
3：实验设备与材料清单：
使用等离子体辅助化学气相沉积系统、NanoTest 600纳米压痕仪、Centaur U HR拉曼光谱仪、Nicolet 5700傅里叶变换红外光谱仪、Solver P47原子力显微镜及Linnik显微干涉仪MII-4。
4：实验流程与操作步骤：
沉积前采用氩离子清洗基底，在不同PPMS流量下沉积薄膜并表征其性能。
5：数据分析方法：
通过Oliver-Pharr法测定硬度和弹性模量，根据载荷/卸载曲线计算弹性恢复率，利用拉曼光谱和红外傅里叶光谱分析薄膜结构。
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NanoTest 600 nanoindenter
600
MicroMaterials
Determining the hardness and elastic modulus of films
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Nicolet 5700 Fourier transform infrared spectrometer
5700
Thermo Scientific
Determination of functional groups in films
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Centaur U HR complex
U HR
Raman spectroscopy
-
Solver P47 atomic force microscope
P47
NT-MDT
Studying the surface morphology of films
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Linnik microinterferometer MII-4
MII-4
LOMO
Determining the films thickness
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