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通过化学浴沉积技术制备的高度紫外敏感多晶硒化锌薄膜
摘要： 本通信中，我们报道了采用化学浴沉积技术制备的多晶硒化锌薄膜具有显著的高紫外灵敏度。沉积态薄膜在紫外照射下获得了三个数量级的光电流/暗电流比。然而研究发现，样品经开放空气等时退火后，其光敏性急剧下降。光电流/暗电流比随退火温度的变化归因于薄膜所呈现的纳米线状结构直径收缩、带隙能量改变以及材料晶界电荷密度降低——这些因素共同导致能带中自由载流子浓度升高，使得退火薄膜的光敏性较沉积态薄膜出现大幅损失。
关键词： 硒化锌薄膜、紫外灵敏度、扫描电子显微镜、带隙能量、光学吸收系数、晶界电荷密度
更新于2025-09-04 15:30:14
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退火处理对共沉淀法制备的纳米级氧化钨表面形貌、光学及结构性能的影响
摘要： 采用低成本的共沉淀法合成了具有单斜结构的氧化钨（WO3）纳米颗粒。所得纳米颗粒在相同物理条件下分别于400°C、500°C、600°C、700°C、800°C和900°C退火处理1小时。通过X射线衍射（XRD）分析、扫描电子显微镜（SEM）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、紫外-可见（UV-Vis）分光光度计及拉曼光谱研究了合成纳米颗粒的形貌、结构与光学性能。XRD结果表明该纳米材料具有单斜晶相的晶体特性，其晶粒尺寸随退火温度变化范围为14-87纳米。采用Williamson-Hall分析法研究了晶格应变与晶粒尺寸的变化关系。紫外-可见光谱测试显示，由于氧空位对电子能带结构影响的差异，制备材料的禁带宽度随退火温度在2.51-3.77电子伏特间变化。SEM观测到均匀分布且尺寸不规则的纳米颗粒；HRTEM分析表明500°C退火样品沿[002]晶面生长（d间距0.39纳米），800°C退火样品沿[200]晶面生长（间距0.36纳米）。透射电镜图谱中均匀清晰的衍射条纹证实了合成纳米材料的晶体特性。文中还讨论了拉曼光谱806 cm?1特征峰位置与峰宽的关联性。这些性能提升使WO3纳米材料成为光催化、电致/光致变色器件等众多潜在应用的高效材料。
关键词： 高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、紫外-可见光谱（UV–Vis spectroscopy）、拉曼光谱（Raman spectroscopy）
更新于2025-09-04 15:30:14