1：实验设计与方法选择：

本研究采用NiO-NiFe2O4选择性还原法制备多孔镍铁基基底，通过脉冲激光沉积(PLD)法沉积LSGM和SDC薄膜。

2：样品选择与数据来源：

以含10 wt% Fe2O3的包覆NiO粉末制备致密NiO-Fe2O3基底。

3：实验设备与材料清单：

PLD系统(PLD-7, PASCAL)、准分子激光器(Compex有限公司)、X射线衍射仪(XRD, Rigaku Rint 2500)、扫描电子显微镜(SEM, VE-7800, 基恩士)、能谱仪(EDX, EDAX)、恒电流仪(北斗电工, HA-301)、阻抗/增益-相位分析仪(Solartron SI 1260)、电化学界面(Solartron SI 1287)、气相色谱仪(SHIMADZU, GC-8A)。

4：0)、扫描电子显微镜(SEM, VE-7800, 基恩士)、能谱仪(EDX, EDAX)、恒电流仪(北斗电工, HA-301)、阻抗/增益-相位分析仪(Solartron SI 1260)、电化学界面(Solartron SI 1287)、气相色谱仪(SHIMADZU, GC-8A)。 实验流程与操作步骤：

4. 实验流程与操作步骤：使用红外加热器将基底升温至1,073 K。沉积过程中氧压调节至0.67 Pa，准分子激光功率与频率分别设定为180 mJ/脉冲和10 Hz。

5：67 Pa，准分子激光功率与频率分别设定为180 mJ/脉冲和10 Hz。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：采用XRD分析所制薄膜晶体结构，SEM与EDX进行形貌及元素分布分析，电化学阻抗通过阻抗/增益-相位分析仪配合电化学界面测量。