研究目的
采用结合高斯拟合的快速傅里叶变换（FFT）分析方法，研究激光干涉光刻制备的表面结构，以确定其周期和图案分布。
研究成果
快速傅里叶变换分析方法结合高斯拟合，为确定激光干涉光刻制备的表面结构周期和方位角提供了一种途径。该方法可用于激光干涉光刻系统的校准与反馈，以及微纳结构制造中的误差检测。
研究不足
该方法依赖于扫描电子显微镜图像的质量以及激光诱导击穿光谱系统的手动设置，这可能会引入误差。方位角测量的准确性受手动设置的影响。
1：实验设计与方法选择：
采用快速傅里叶变换（FFT）分析方法结合高斯拟合技术，对激光干涉光刻（LIL）制备的表面结构频谱进行分析。
2：样品选择与数据来源：
使用正性光刻胶通过多光束LIL制备的周期性结构作为分析对象。
3：实验设备与材料清单：
采用波长360nm的单模二极管泵浦固态激光器（MSL-FN-360-S，CNI）和扫描电子显微镜（SEM；Quanta250，FEI）。
4：实验流程与操作步骤：
通过FFT处理强度分布图像获取频谱，并利用高斯拟合确定周期与方位角。
5：数据分析方法：
基于FFT结果分析结构的周期与方位角参数。
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