研究目的
控制YbFe2O4外延薄膜的化学成分并研究铁成分对电荷有序转变的影响。
研究成果
YbFe2O4外延薄膜的化学成分与电荷有序性密切相关。当Fe/Yb组分比接近化学计量比时，阈值电场(Eth)降低，这表明电荷有序性的稳定性随铁组分变化而改变。
研究不足
该研究的局限性在于YbFe2O4晶体本身的形成难度以及化学计量比的保持。形成YbFe2O4外延薄膜的工艺窗口非常狭窄。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用ArF和KrF准分子激光器的脉冲激光沉积（PLD）法制备YbFe2O4薄膜，通过调节激光功率和激光功率密度控制活性氧物种含量。
2：样品选择与数据来源：
以(111)取向YSZ为衬底，精确称量Yb2O3和α-Fe2O3粉末以获得Fe/Yb=2和3的化学计量比。
3：实验设备与材料清单：
ArF和KrF准分子激光器、(111)YSZ衬底、Yb2O3和α-Fe2O3粉末、氧化铝坩埚、Cu-Kα辐射X射线衍射仪(XRD)、能量色散X射线光谱仪(EDX)。
4：实验流程与操作步骤：
将粉末混合物经煅烧、球磨、压片后烧结，在800-900°C温度范围内无气体流动条件下进行沉积。
5：数据分析方法：
采用XRD表征薄膜晶体结构，EDX测定薄膜成分，通过双探针法评估I-V特性。
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获取完整内容-
ArF excimer laser
Used for laser ablation to reduce the amount of active oxygen species.
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KrF excimer laser
Used for laser ablation.
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X-ray diffraction
X’pert MRD
Philips
Used to characterize the crystal structure of the films.
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Energy-dispersive X-ray spectroscopy
SIGMA
Kevex
Used to determine the film composition.
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Picoampere meter
4140B
Hewlett Packard
Used to evaluate I–V characteristics.
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