研究目的
优化超快激光参数以实现熔融石英三维微加工的高表面质量、高产量生产及复杂曲面加工。
研究成果
该研究成功优化了熔融石英三维微加工的超快激光参数，在实现高表面质量的同时达到了高制造速度。研究成果可为光学元件及应用的实用化制造权衡提供指导。
研究不足
该研究仅限于熔融石英和特定激光参数。蚀刻过程取决于蚀刻剂的化学性质以及激光改性区域。
1：实验设计与方法选择：
研究采用熔融石英的超快激光直写辅助化学蚀刻技术。通过改变激光脉冲宽度、脉冲能量、偏振态及重叠脉冲数量等参数，探究其对纳米光栅和选择性蚀刻的影响。
2：样品选择与数据来源：
使用1毫米厚的康宁7980熔融石英板。样品在蚀刻前经过切割和抛光处理。
3：实验设备与材料清单：
实验装置包含Uranus（PolarOnyx）和Satsuma（Amplitude Systems）掺镱光纤激光器、Aerotech高精度定位平台、Thorlabs 0.4NA 20×显微聚焦物镜，以及用于蚀刻的KOH溶液。
4：4NA 20×显微聚焦物镜，以及用于蚀刻的KOH溶液。 实验流程与操作步骤：
4. 实验流程与操作步骤：直写过程在石英板表层下方进行。随后对样品进行切割、抛光并在KOH溶液中蚀刻。通过扫描电子显微镜（SEM）和白光干涉仪分析表面质量。
5：数据分析方法：
分析激光参数对纳米光栅及蚀刻选择性的影响。采用高斯滤波法测量表面粗糙度。
独家科研数据包，助您复现前沿成果，加速创新突破
获取完整内容-
Thorlabs 0.4NA, 20× micro focusing objective
0.4NA, 20×
Thorlabs
Focusing the laser beam
-
Uranus
PolarOnyx
Femtosecond laser machining system
-
Satsuma
Amplitude Systems
Ytterbium-doped fiber laser
-
Aerotech high precision positioning stages
Aerotech
Positioning stages for laser machining
-
KOH solution
Chemical etching of fused silica
-
登录查看剩余3件设备及参数对照表
查看全部
