研究目的
展示一种晶圆级"免光刻"并行制造方案,实现具有精确尺寸、形状、材料及取向控制的纳米间隙等离子体超分子,并通过整个可见光谱范围调控相应的耦合共振。
研究成果
该研究展示了一种可扩展的制备技术,能制造出具有明确光谱特性的等离子体纳米间隙二聚体与三聚体。这些阵列高度均匀,可通过标准紫外-可见光谱进行表征。该方法能够调控等离子体结构的材料组成、尺寸、间隙、取向及对称性,适用于传感、成像、捕获、光刻及能量转换等领域。
研究不足
该方法需要对沉积角度和退火条件进行精确控制,以避免不必要的颗粒融合并确保均匀性。较高的退火温度可能导致基板上非预期的GLAD金沉积物发生融合,从而影响光学性能。