研究目的
研究在已知折射率的情况下，通过分光光度曲线确定厚度小于400纳米活性薄膜厚度的方法。
研究成果
用于制备有机DFB激光器的薄膜（厚度范围400-40纳米）的厚度测量精度可达约5纳米，即使对于低折射率（1.5-1.7）的薄膜也是如此。折射率可通过分光光度包络法从相同材料的较厚薄膜获得，但将该方法应用于厚度小于80纳米的薄膜时需谨慎，因为其折射率可能发生变化。
研究不足
该方法受限于极薄膜层折射率增大的情况，因此对于厚度小于80纳米的薄膜，不建议采用Swanepoel方法通过厚膜来确定其折射率。
1：实验设计与方法选择：
该流程基于将透明光谱窗口中的实验透射光谱与模拟获得的光谱进行比较。
2：样品选择与数据来源：
从含有聚合物和染料的甲苯溶液中旋涂制备均匀薄膜，基底为透明熔融石英（FS）。
3：实验设备与材料清单：
Jasco V-650分光光度计，用于模拟的Mathematica程序（Wolfram Research公司）。
4：实验步骤与操作流程：
以空气为参比测量样品中心区域的透射数据。实验数据、熔融石英基底的色散关系以及从厚膜获得的薄膜色散关系作为输入，薄膜厚度d为输出。
5：数据分析方法：
通过透明窗口内绝对偏差总和评估模拟数据与实验数据的差异。
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Jasco V-650 spectrophotometer
V-650
Jasco
Used for taking measurements against air at the center of the sample.
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Ambios XP-1
XP-1
Ambios
Used for comparative film thickness measurements.
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Mathematica
Wolfram Research, Inc.
Used for simulating the spectrum and comparing it with experimental data.
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M-2000U system
M-2000U
Used for highly accurate measurements by variable angle spectroscopic ellipsometry (VASE).
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