研究目的
利用微图案化基底研究向列相液晶中拓扑缺陷的控制与稳定化，并探索其光学与结构特性。
研究成果
该研究展示了一种利用微图案化基底控制向列相液晶拓扑缺陷模式的方法，从而形成具有鲜艳色彩的规则纹理。当转变为近晶A相时，其结构得以保留并呈现出万花筒般的视觉效果。研究确立了支配缺陷排列的拓扑规则，为设计光电子和微流体应用中更复杂的结构提供了见解。
研究不足
该研究仅限于特定的液晶材料和基底图案。该方法对其他材料或图案的可扩展性以及缺陷晶格的长期稳定性尚未深入探究。
1：实验设计与方法选择：
研究采用具有凹版孔的微图案硅基底，在向列相液晶中构建周期性拓扑缺陷阵列，探究了孔形、晶格对称性及表面处理对缺陷排布的影响。
2：样本选择与数据来源：
所用液晶材料为4'-正辛基-4-氰基联苯（8CB），通过毛细作用在其各向同性态注入液晶盒。
3：实验设备与材料清单：
图案化硅基底、盖玻片、用于表面处理的聚酰亚胺材料、液晶材料（8CB）、配备λ波片的偏光显微镜（POM）、控温加热台。
4：实验流程与操作步骤：
样品以受控速率冷却至向列相，通过POM观察光学织构，并研究了向近晶A相的转变过程。
5：数据分析方法：
根据POM图像重建指向矢场和缺陷绕数，运用拓扑规则阐释缺陷排布规律。
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