研究目的
描述光学制造中的新工艺和表征技术，这些技术能提供对制造过程的额外见解，重点关注表面面形、表面质量、表面粗糙度和材料去除率。
研究成果
本章介绍了多种用于光学制造与表征的新技术，这些技术能更深入地洞察制造过程。它们针对表面面形、质量、粗糙度及材料去除率等关键要素，为工程师和光学技师提供了改进制造成果的工具。这些方法既包括工艺改进（如抛光垫磨损管理和研磨液稳定化），也涵盖先进表征技术（如纳米划痕测试和用于亚表面损伤检测的锥楔测量法）。
研究不足
所述技术可能需要专业设备和材料，并非所有光学加工环境都容易获取。某些方法（如气密抛光腔室）实施成本可能较高。特定技术（如磨料化学稳定法）的效果可能因所用磨料和工件材料的不同而有所差异。
1：实验设计与方法选择：
本章描述了多种光学加工与表征的新技术，包括刚性/柔性阻挡、条带蚀刻与整体蚀刻、使用隔膜或调节器进行抛光垫磨损管理、密封式高湿度抛光腔室、工程化过滤系统、抛光液化学稳定化、抛光液寿命与循环利用、超声波抛光垫清洁以及多种工件表征技术。
2：样品选择与数据来源：
这些技术应用于光学工件（特别是熔融石英及其他光学材料），数据来源于实验测量和文献资料。
3：实验设备与材料清单：
设备包括原子力显微镜（AFM）、红外成像相机、共聚焦显微镜、用于颗粒尺寸分布（PSD）测量的单粒子光学传感（SPOS）系统，以及各类抛光与研磨系统。材料包括抛光液、沥青、聚氨酯抛光垫及光学工件。
4：实验流程与操作步骤：
详细说明了各项技术的操作流程，例如沥青钮阻挡（PBB）工艺、使用隔膜管理抛光垫磨损，以及采用密封腔室进行抛光。
5：数据分析方法：
数据分析包括测量表面面形变化、通过AFM检测粗糙度、通过SPOS测量PSD，以及通过红外成像测量温度分布。
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AFM
Used for measuring surface roughness and nanoscratching to determine the removal function of polishing particles.
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IR imaging camera
Used for measuring temperature distribution during polishing to diagnose and manage thermal variations.
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Confocal microscopy
Used for imaging pad topography to understand its influence on material removal rate and surface roughness.
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SPOS
Used for measuring the particle-size distribution (PSD) of polishing slurries, especially the tail end of the distribution.
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Polyurethane pad
MHN
Used as a lap material in polishing systems, with its topography and wear characteristics influencing the polishing process.
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Ceria slurry
Hastilite PO
Used as a polishing slurry, with its particle-size distribution and chemical stabilization affecting polishing outcomes.
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