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[IEEE 2018年第20届透明光网络国际会议(ICTON) - 布加勒斯特(2018.7.1-2018.7.5)] 2018年第20届透明光网络国际会议(ICTON) - 氧化物薄膜的非线性光学特性

DOI：10.1109/ICTON.2018.8473614 出版年份：2018 更新时间：2025-09-09 09:28:46
摘要： 本工作描述了在高真空条件下，采用物理气相沉积技术在室温下制备于透明（石英）和半导体（n型硅）基底上的氧化物薄膜。选取二氧化钛、二氧化锡和氧化铟作为研究对象。所制薄膜在常压环境下分别经100°C、150°C、250°C和450°C退火处理12小时。通过光学图像和原子力显微镜测量分析了薄膜的结构特性，结果显示其结构高度依赖于退火温度，选择合适的退火温度可改善薄膜质量。采用1064nm波长的Nd:YAG激光器作为基频光进行三次谐波测试，研究了非线性光学效应，计算并分析了三阶非线性光学系数。研究发现非线性光学性能与薄膜形貌密切相关，且退火温度能改变被测氧化物薄膜的结构和光学特性。
作者： A. Zawadzka，P. P?óciennik，K. Waszkowska，D. Guichaoua，B. Sahraoui
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

研究采用物理气相沉积技术制备的氧化物薄膜的结构和非线性光学特性，以及退火工艺对这些特性的影响。

研究成果

氧化物薄膜的非线性光学特性与其形貌密切相关，退火工艺温度会显著改变这些薄膜的结构和光学性能。在1064纳米基波波长下，测得三阶非线性极化率值介于10?1?至10?2?平方米/伏2之间。

研究不足

该研究仅限于退火温度对氧化物薄膜结构和光学特性的影响。所采用的退火温度范围及材料可能无法涵盖所有可能的特性变化。

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