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二元改性剂协同改性碳化硅粉体的改性效果及机理研究

DOI:10.1088/2053-1591/aaf7d6 期刊:Materials Research Express 出版年份:2018 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: 采用二元改性剂——γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)和四甲基氢氧化铵(TMAH)对碳化硅进行共改性,制备出高分散性改性碳化硅粉体。以改性后碳化硅粉体制备浆料的粘度(重要参数)来考察改性效果。结果表明:当SiC粉体与0.4 wt% KH590和1.0 wt% TMAH反应2小时后,获得最低粘度0.52 Pa·s。同时,改性前后SiC粉体的Zeta电位绝对值分别为13 mV和42 mV,表明改性后碳化硅粉体具有高度分散性。此外,使用该改性碳化硅粉体制得了密度高达2.49 g/cm3的坯体。本文还阐释了KH590与TMAH共改性碳化硅粉体的分散机理。
作者: Youxing Liu,Jiaxiang Liu
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研究概述 实验方案 设备清单

研究二元改性剂协同改性碳化硅粉末以提高其分散性的改性效果及机理。

该研究成功利用KH590和TMAH作为改性剂提高了SiC粉体的分散性,制得了粘度最低的浆料和致密度高的坯体。其改性机理是KH590促进TMAH在SiC表面的吸附,从而增强颗粒间的静电斥力。

该研究聚焦于改性效果与机理,但未探究改性SiC粉末的长期稳定性或工业可扩展性。

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