研究目的
利用扫描探针显微镜研究胶体光刻法制备的功能化酞菁锌纳米结构的表面取向与尺寸。
研究成果
利用胶体光刻技术制备的纳米结构为控制有机硅烷基质薄膜特定区域内分子的生长与聚集提供了一种实用方法。酞菁分子的侧基选择决定了其取向和表面组装方式。OTMS和PEO-硅烷均被证实能有效作为抗蚀剂，实现ZnPc在APTES纳米图案上的位点选择性结合。
研究不足
研究分子构型的非原位方法在纳米图案化的连续步骤中，不会监测样品的同一精确区域，因此需要光标测量的平均值，而非单个纳米结构的实时视图或动力学信息。
1：实验设计与方法选择：
采用胶体光刻结合有机硅烷溶液浸渍与气相沉积步骤，制备出纳米孔和纳米环的图案化阵列。
2：样品选择与数据来源：
以抛光的硅晶片Si(111)为基底，选用直径250和300纳米的尺寸分选单分散二氧化硅及乳胶介球作为表面掩模。
3：实验设备与材料清单：
使用原子力显微镜（AFM）进行表征，材料包括3-氨丙基三乙氧基硅烷（APTES）、十八烷基三甲基硅烷（OTMS）和2-[甲氧基(聚乙二醇)丙基]三氯硅烷（PEO-硅烷）。
4：实验步骤与操作流程：
利用胶体乳胶或二氧化硅球表面掩模?；i(111)基底特定区域免受有机硅烷沉积，移除掩模后对裸露区域进行后续反应步骤。
5：数据分析方法：
通过AFM分析纳米结构的尺寸与形貌。
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