研究目的
采用三种沉积技术在硅(Si)衬底上制备二氧化硅(SiO2)包覆的纳米结构金薄膜，并利用光谱椭偏仪观测其光学特性。
研究成果
采用不同沉积技术合成的薄膜均呈现面心立方（fcc）结构，其中脉冲激光沉积（PLD）技术制备的薄膜晶粒尺寸更为均匀。光学测量表明，由于不同合成路径导致的微观结构差异，介电常数存在区别。未来研究方向包括电阻率测量以及变温光学特性研究。
研究不足
该研究在拟合XRD图谱时未考虑应变分量，这可能影响晶粒尺寸的测定。未来工作可包括高低温下的电阻率测量和光学研究。
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利用光谱椭偏仪观测金薄膜的光学特性
DOI：10.4172/2169-0022.1000303
期刊：Journal of Material Science & Engineering
出版年份：2016
更新时间：2025-09-23 15:19:57
摘要：
在这项研究工作中，我们尝试采用三种沉积技术（直流磁控溅射、脉冲直流磁控溅射和脉冲激光沉积）在二氧化硅（SiO2）包覆的硅（Si）基底上合成纳米结构金薄膜。通过光谱椭偏仪进行的光学测量显示，不同合成方法制备的薄膜介电常数存在差异。这是预期之中的结果，因为不同合成方法会产生不同的微观结构。微观结构的差异导致电子结构不同，进而造成光学响应的差异。
作者：
Pradhan SK
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