研究目的
研究射频磁控溅射法制备的ZnO薄膜的光学特性，并评估不同参数对这些特性的影响。
研究成果
该研究成功确定了获得具有良好光学性能的高质量ZnO薄膜的最佳沉积参数。这些薄膜在可见光区域表现出高透明度，其中在100°C下生长的样品折射率为1.97。研究结果与文献报道一致，为ZnO薄膜的进一步应用提供了依据。
研究不足
本研究仅限于特定条件下射频磁控溅射生长的ZnO薄膜的光学特性。未探究其他沉积参数和衬底对光学特性的影响。
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射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的光学特性
DOI：10.5897/ijps2014.4241
期刊：International Journal of Physical Sciences
出版年份：2015
更新时间：2025-09-23 15:19:57
摘要：
我们采用射频磁控溅射法，以金属锌靶为源，在玻璃基板上制备了氧化锌(ZnO)薄膜。通过评估多个工艺参数对薄膜光学性能的影响，发现所制薄膜具有极高的电阻率(1012 Ω·cm)和室温下3.3 eV的禁带宽度。实验表明：当射频功率为50 W、靶材与基板间距70 mm、在极低气压(3.35×10?3 Torr)的氩氧混合气体环境中生长时，可获得均匀性良好且结晶度高的ZnO薄膜。所有薄膜在可见光区(400-800 nm)均呈现高透光性，平均透过率超过80%。根据光学吸收光谱计算得出的光学透过率和折射率显示，这些参数与生长条件显著相关。其中100°C下生长的样品在可见光波段平均透过率约80%，估算其折射率为1.97。
作者：
R. Ondo-Ndong，H. Z. Moussambi，H. Gnanga，A. Giani，A. Foucaran
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