1：实验设计与方法选择：

本研究涉及制备四层电致变色器件，包含ITO、Nafion膜和WO3层。WO3和ITO薄膜采用反应式直流磁控溅射法在室温下沉积。根据比尔-朗伯定律并采用体积电荷密度的修正公式分析着色效率。

2：样品选择与数据来源：

使用钠钙玻璃基底。通过改变沉积时间（30、45、60、90、120分钟）使WO3厚度在44nm至200nm间变化，分别标记为30-G、45-G、60-G、90-G、120-G。

3：120分钟）使WO3厚度在44nm至200nm间变化，分别标记为30-G、45-G、60-G、90-G、120-G。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括配备Advanced Energy电源（MDX 1KW）的反应式直流磁控溅射系统、轮廓仪（布鲁克3D非接触式轮廓仪）、X射线衍射仪（Xpert Pro，Cu Kα辐射）、拉曼光谱仪（堀场Jobin Yvon LabRam，532nm激发）、紫外-可见分光光度计（Cary 60）、循环伏安和计时电流测试装置（Biologic SP-300）、扫描电镜。材料包括金属钨靶（纯度99.9%，尺寸380mm×127mm）、ITO靶（In:Sn=90:10，尺寸380mm×127mm）、商用Nafion 117膜（183μm厚）、氩气和氧气。

4：0）、循环伏安和计时电流测试装置（Biologic SP-300）、扫描电镜。材料包括金属钨靶（纯度9%，尺寸380mm×127mm）、ITO靶（In:

4. 实验流程与操作步骤：使用清洁玻璃基底。首先沉积ITO薄膜（400nm），再在ITO上沉积不同厚度的WO3薄膜。通过Nafion溶液胶将Nafion膜置于WO3上并机械压合，最后压合另一片ITO镀膜玻璃。通过XRD、拉曼、光学透射、循环伏安和计时电流对器件进行表征。

5：实验流程与操作步骤：

5. 数据分析方法：采用轮廓仪测量厚度。通过Tauc图评估光学带隙?；谕干渎时浠偷绾汕度肓?，利用修正的比尔-朗伯定律计算着色效率。对实验误差范围内的可重复结果进行统计分析。