1：实验设计与方法选择：

采用脉冲激光沉积法（PLD）在300至700°C真空环境下，于(001)取向的SrTiO3（STO）、LaAlO3（LAO）和(LaAlO3)0.3(Sr2TaAlO6)0.7（LSAT）衬底上生长SrVO3薄膜，以避免过度氧化。该方法用于研究应变和氧空位对薄膜性能的影响。

2：3(Sr2TaAlO6)7（LSAT）衬底上生长SrVO3薄膜，以避免过度氧化。该方法用于研究应变和氧空位对薄膜性能的影响。 样品选择与数据来源：

2. 样品选择与数据来源：根据与SrVO3块体（

3：840 ?）的晶格失配度选择衬底：

STO（1.69%拉伸）、LSAT（0.73%拉伸）和LAO（-1.30%压缩）。薄膜厚度约40纳米。

4：69%拉伸）、LSAT（73%拉伸）和LAO（-30%压缩）。薄膜厚度约40纳米。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括用于PLD的KrF准分子激光器（λ=248 nm）、布鲁克D8 Discover X射线衍射仪、Quantum Design物理性质测量系统（电学测量）、珀金埃尔默Lambda 1050分光光度计（光学测量）及卢瑟福背散射谱（RBS）（化学分析）。材料包括Sr2V2O7多晶靶材和清洗后的衬底。

5：实验流程与操作步骤：

衬底经丙酮和乙醇超声清洗。沉积参数为激光能量密度≈1.6 J cm?2、重复频率3 Hz、靶-衬底距离50 mm、残余气压1×10?? mbar。结构表征采用XRD和倒易空间图；电学性能通过四探针法和霍尔效应在5-300 K范围测量；光学性能在紫外-可见-近红外波段测定。

6：6 J cm?2、重复频率3 Hz、靶-衬底距离50 mm、残余气压1×10?? mbar。结构表征采用XRD和倒易空间图；电学性能通过四探针法和霍尔效应在5-300 K范围测量；光学性能在紫外-可见-近红外波段测定。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：XRD数据用于确定晶格参数和薄膜厚度；电阻率数据拟合ρ(T)=ρ0+A×Tα模型；霍尔效应数据提供载流子浓度和迁移率；光学数据通过透射率和反射率分析提取等离子体频率。