1：实验设计与方法选择：

本研究通过控制pH值，在室温下采用硬模板法合成了氟表面修饰的mpg-C3N4光催化剂。其机理涉及用NH4HF2蚀刻SiO2以及在酸性条件下F-离子的静电结合。理论模型包括用于能带结构分析的DFT计算。

2：样品选择与数据来源：

样品由三聚氰胺和硅溶胶制备而成，通过调节洗涤过程中的pH值（2.5、4.3、5.1、7.0）制得mCN-2.5、mCN-4.3、mCN-5.1和CN。数据来源包括表征技术和使用罗丹明B（RhB）进行的光催化降解测试。

3：0）制得mCN-mCN-mCN-1和CN。数据来源包括表征技术和使用罗丹明B（RhB）进行的光催化降解测试。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括XRD（D/MAX-2200/PC，理学）、XPS（Kratos Analytical Ltd.，XSAM800）、TEM（Tecnai G2F20 S-TWIN，FEI）、FT-IR（VERTE70，布鲁克）、BET比表面积分析仪（型号BET 3H-2000 BET-A，贝士德仪器科技有限公司）、zeta电位分析仪（NANO-ZS，马尔文）、荧光分光光度计（FS5，爱丁堡）、HPLC（Waters E2695）、光化学反应器（XPA-7型，徐江机械厂）、紫外-可见分光光度计（SP-756P）和电化学工作站（CHI600）。材料包括三聚氰胺、硅溶胶、NH4HF2、NaOH、乙醇、RhB、苯醌（BQ）、乙二胺四乙酸（EDTA）、叔丁醇（TBA）、Na2SO4和FTO基底。

4：0）、TEM（Tecnai G2F20 S-TWIN，FEI）、FT-IR（VERTE70，布鲁克）、BET比表面积分析仪（型号BET 3H-2000 BET-A，贝士德仪器科技有限公司）、zeta电位分析仪（NANO-ZS，马尔文）、荧光分光光度计（FS5，爱丁堡）、HPLC（Waters E2695）、光化学反应器（XPA-7型，徐江机械厂）、紫外-可见分光光度计（SP-756P）和电化学工作站（CHI600）。材料包括三聚氰胺、硅溶胶、NH4HFNaOH、乙醇、RhB、苯醌（BQ）、乙二胺四乙酸（EDTA）、叔丁醇（TBA）、Na2SO4和FTO基底。 实验步骤与操作流程：

4. 实验步骤与操作流程：合成过程包括将三聚氰胺溶解于90°C的硅溶胶中，550°C煅烧4小时，用NH4HF2蚀刻，用不同pH值的NaOH洗涤并干燥。表征包括XRD、XPS、TEM、FT-IR、BET、zeta电位、PL、载流子寿命和HPLC。光催化活性通过紫外光下降解RhB来测量，并使用BQ、EDTA和TBA进行清除剂测试。光电化学性质通过以Ag/AgCl为参比电极和FTO为工作电极的三电极体系，在氙灯照射下评估。

5：数据分析方法：

数据分析包括XRD的Rietveld精修、XPS的峰拟合、BET的比表面积计算、降解速率的动力学建模、DFT的能带结构分析以及载流子寿命的双指数拟合。