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Oxygen in Complex Oxide Thin Films Grown by Pulsed Laser Deposition: a Perspective

DOI:10.1007/s10948-019-05276-5 期刊:Journal of Superconductivity and Novel Magnetism 出版年份:2019 更新时间:2025-09-19 17:13:59
摘要: For thin film synthesis of complex oxides, one of the most important issues has always been how to oxidise the material. For a technique like pulsed laser deposition, a key benefit is the relatively high oxygen background pressure one can operate at, and therefor oxidation should be relatively straightforward. However, understanding the microscopic oxidation mechanisms turns out to be rather difficult. In this perspective, we give a brief overview of the sources of oxidation for complex oxide thin films grown by pulsed laser deposition. While it is clear what these sources are, their role in the kinetics of the formation of the crystal structure and oxygen stoichiometry is not fully understood.
作者: Gertjan Koster,Dave H. A. Blank,Guus A. J. H. M. Rijnders
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To provide a brief overview of the sources of oxidation for complex oxide thin films grown by pulsed laser deposition and discuss the challenges in understanding the microscopic oxidation mechanisms.

The paper concludes that while the sources of oxygen in PLD complex oxide thin film growth are clear, their role in the kinetics of film formation is not fully understood. It emphasizes the need for further experiments and new kinetic models to better understand the growth of complex oxides, particularly the microscopic surface diffusion mechanisms.

The paper highlights the difficulty in fully understanding the microscopic oxidation mechanisms and the role of different oxygen sources in the kinetics of crystal structure formation and oxygen stoichiometry in complex oxide thin films grown by PLD.

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