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[IEEE 2018 48th European Microwave Conference (EuMC) - Madrid, Spain (2018.9.23-2018.9.27)] 2018 48th European Microwave Conference (EuMC) - Characterization and Modeling of Epitaxially Grown BST on a Conducting Oxide Electrode

DOI:10.23919/EuMC.2018.8541771 出版年份:2018 更新时间:2025-09-04 15:30:14
摘要: This work presents a characterization technique and an EM-model for a thin film BST50 varactor grown on the oxide electrode material SMO, describing the benefits and limits of this characterization technique. Effective capacitance, Q factor, ESR and leakage current are evaluated and analyzed to understand the dominating mechanisms for the overall characteristic. The Q factor for this 13.3 pF varactor is 20.5 at 1 GHz. The extracted permittivity is 365, indicating a good BST crystal quality despite only 80 nm film thickness. The tunability at battery voltage level 3.7 V bias voltage (46 V/μm) is 67.8 %. The EM model shows very high Q factors up to 6 GHz, revealing outstandingly high potential for this oxide varactor with Q factors of up to 70 at 1 GHz, while still maintaining its large tunability. Hence, the ability to epitaxially grow BST on structurally similar SMO allows for very thin BST thicknesses with very low defect density, and thus, very high tunability at very low voltage below 3.7 volts.
作者: D. Walk,P. Salg,D. Kienemund,A. Radetinac,L. Zeinar,C. Schuster,P. Komissinskiy,L. Alff,R. Jakoby,H. Maune
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Investigating the characterization technique and EM-model for a thin film BST50 varactor grown on the oxide electrode material SMO, to understand the benefits and limits of this characterization technique and the varactor's performance.

The study demonstrates the potential of epitaxially grown BST on SMO for high-performance varactors, with high tunability at low voltage levels and high Q factors. Future work will focus on optimizing the component layout and BST/SMO interface for even better performance.

The characterization technique suffers from limited accuracy in Q factor measurements due to the varactor's strong mismatch with the 50 ? port of the VNA. The impact of wafer probes on acoustic resonances and the introduction of a negative inductance during calibration are also noted as limitations.

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