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在现代光电系统和电子电工设备中，光学元件名称的准确识别与理解是确保系统设计、维护及优化的基石。无论是构建精密的光纤通信网络，还是调试复杂的激光加工设备，工程师和技术人员若对各类光纤元件、透镜、滤光片等关键部件的命名规则与功能特性模糊不清，极易导致选型错误、性能下降甚至系统故障。随着半导体器件与光电技术的深度融合，掌握规范的光学元件名称不仅关乎技术沟通的效率，
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概述
参数
- 过滤器类型 / Filter Type : Bandpass Filter
- 半高宽（FWHM） / Bandwidth (FWHM) : 40 nm
- FWHM公差 / FWHM Tolerance : ± 8 nm
- 阻挡波长 / Blocking Wavelength : 200 to 1150 nm
- RoHS / RoHs : Yes
- 过滤器形状 / Filter Shape : Round
- 基底/材料 / Substrate/Material : Schott Borofloat, Soda Lime
- 滤波器直径 / Filter Diameter : 25.4 mm (1 Inch)
- 表面质量 / Surface Quality : 80-50 scratch-dig
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脉冲与连续波发射模式的互补使用以稳定激光粉末床熔融中的熔池几何形状
选择性激光熔化 不锈钢 熔池监测 连续波发射 脉冲波发射
激光粉末床熔融（LPBF）工艺中最常见的缺陷——孔隙、几何误差、表面粗糙度及热变形，主要与工艺能量输入相关。常规做法是采用单一组工艺参数制造整个部件，而不考虑给定层内实际扫描路径的尺寸差异。然而熔池稳定性高度依赖于扫描几何特征。维持稳定熔池的可行策略是混合使用脉冲波（PW）和连续波（CW）发射模式。本研究据此探究了在固定能量密度下，分别对大截面和薄截面互补采用连续发射与调制发射的方法。该方案在AISI 316L不锈钢上进行了测试，并通过专用的同轴监测系统进行熔池观测。研究提取了熔池强度与几何特性的时间分辨测量数据，以及熔池区域的三维空间分布图谱。结果表明：在过渡至薄截面的衔接区域采用CW向PW模式的转换，能有效维持恒定的熔池尺寸，从而避免热量积聚及制件从粉床中溢出。
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铁掺杂SrTiO<sub>3</sub>界面处电场诱导氧空位迁移导致的局部结构变化
光致发光 氧空位 电陶瓷 二次谐波产生
我们采用二次谐波（SHG）与光致发光（PL）联用技术，研究了直流电压作用下还原态与氧化态掺铁钛酸锶（Fe:STO）电极界面的结构变化。研究表明氧空位缺陷对肖特基结界面耗尽区的局部电学与结构特性起决定性作用。SHG结果显示：低电场条件下，直流电场分别驱使氧离子和空位向阳极与阴极方向迁移，该过程在局部界面耗尽区形成由Fe-Ti-O键伸缩与弯曲描述的电致伸缩畸变。通过分析氧化态与还原态晶体界面的电场诱导二次谐波（EFISHG）响应差异，我们阐释了局部氧空位浓度、动力学特性及其对各界面肖特基势垒高度与耗尽区宽度的影响机制，相关结论得到PL测量结果进一步验证。氧离子向Fe:STO表面迁移会增强带隙内受主态的荧光强度。本研究表明SHG与PL技术能有效解析钙钛矿型电子陶瓷中直流电场与离子缺陷迁移导致的介电击穿过程及器件失效根源。
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多色可见光通信的光学滤波器设计
鲁棒设计 光学滤波器 光谱偏移 迁移率 多色LED 可见光通信 光谱重叠
在可见光通信（VLC）中，采用多色光是提升数据速率的有效方法，由此产生了多色可见光通信（MC-VLC）。然而不同颜色光的光谱重叠会影响MC-VLC的性能。作为MC-VLC系统的关键组件，薄膜光学滤波器通常用于分离不同颜色的光。光学滤波器的通带带宽（BW）和中心波长（CWL）对缓解颜色间串扰至关重要，因此必须精心设计。此外，由于中心波长会随入射角（AoI）变化产生固有偏移，这使得支持MC-VLC的移动性面临挑战。本文通过合理选择各滤波器的带宽和中心波长，研究MC-VLC多光学滤波器的联合设计方案。我们首先分析固定接收位置的滤波器设计，随后为支持移动性提出两种鲁棒滤波器设计方案——统计鲁棒设计和最坏情况鲁棒设计，这两种方案均不依赖精确的接收位置信息。我们开发了高效算法求解相应设计问题并获得优化滤波器。与现有滤波器相比，所提出的滤波器在各种场景下都展现出更优异的性能。
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实验方案推荐
AI分析生成
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机械工程实验方案
{"实验设计与方法选择": "本研究探究了连续波(CW)和脉冲波(PW)发射模式对AISI 316L不锈钢激光粉末床熔融(LPBF)过程中熔池几何形态的影响。研究者在开放式LPBF平台上集成了定制监测模块，用于观测近红外(NIR)区域的熔池几何形态。", "样本选择与数据来源": "采用气体雾化AISI 316L不锈钢粉末。通过专为此设计的同轴监测系统观测熔池几何形态。", "实验设备与材料清单": "LPBF系统包含定制粉末床、单模光纤激光器(IPG Photonics YLR-150/750-QCW-AC)、配备CMOS相机(Ximea xiQ USB Vision)的监测?？榧岸嘀止庋斯馄?Thorlabs)。", "实验流程与操作规范": "研究在相同能量密度下对比了块状与薄壁区域的CW和PW发射效果。通过同轴NIR图像监测测量熔池尺寸，并构建伪断层三维熔池图谱。", "数据分析方法": "从图像中提取熔池尺寸与强度参数，采用MATLAB程序对热发射图像进行静态阈值处理以估算熔池尺寸。"}
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材料科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择：本研究采用二次谐波（SHG）和光致发光（PL）技术探究直流偏压下电极界面的结构变化，理论模型包括电场诱导二次谐波（EFISHG）和肖特基结行为。 2. 样品选择与数据来源：选用经不同氧压（还原与氧化环境）退火并淬火的Verneuil法生长(100)取向Fe掺杂量0.01 wt.%的SrTiO3单晶，表面溅射Pt电极。 3. 实验设备与材料清单：设备包含锁模钛宝石脉冲激光器、格兰偏振片、带通滤波器（Thorlabs, FB400-40）、光电倍增管?？椋℉amamatsu, H9305-04）、荧光光谱仪（HORIBA Scientific, FluoroLog-3）及退火用管式炉；材料为Fe掺杂SrTiO3晶体与Pt电极。 4. 实验流程与操作步骤：样品经退火淬火后沉积Pt电极，SHG测量时入射光与表面法线成45度角，PL测量采用325 nm激发光，通过施加直流电压分别研究阳极与阴极界面。 5. 数据分析方法：采用SHG强度与有效极化率的拟合方程处理数据，荧光光谱通过高斯峰拟合分析。
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光电信息科学与工程实验方案
1. 实验设计与方法选择：本研究旨在为MC-VLC系统设计光学滤波器以减轻颜色间串扰并支持移动性，采用理论模型和算法优化各滤波器的带宽与中心波长。 2. 样本选择与数据来源：研究使用QLED器件LZ4-00MA00（LED Engin）进行模拟，该器件包含红/琥珀/绿/蓝（RAGB）四色。 3. 实验设备与材料清单：模拟参数包括QLED器件、具有指定带宽和中心波长的光学滤波器，以及其他系统参数如信噪比、视场角和光电二极管面积。 4. 实验流程与操作步骤：研究针对固定入射角、统计鲁棒和最坏情况鲁棒的光学滤波器设计制定不同方案，并提出高效解决方法。 5. 数据分析方法：通过数值模拟评估所提光学滤波器的性能，在不同功率配置和入射角条件下比较归一化均方误差与误码率表现。
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