研究目的
研究氮分压对相形成（Cr、Cr2N、CrN）的影响，进而探究其对所制备涂层性能的影响。
研究成果
该研究成功证明，在直流反应溅射过程中调节氮分压可控制CrxNy薄膜的相形成，进而显著影响其微观结构、光学及电学性能。这些发现为基于相组成定制适用于特定应用的CrxNy薄膜提供了重要依据。
研究不足
该研究聚焦于氮分压对CrxNy薄膜性能的影响，但未改变温度和偏压等其他沉积参数。光学与电学性质与相形成相关，但对相变的确切机制未作深入探究。
1：实验设计与方法选择：
本研究采用直流反应离子溅射法，在不同氮分压条件下于Si(100)晶圆上沉积CrxNy薄膜。通过XRD、TEM和RBS进行结构和元素分析，利用光谱椭偏仪评估光学特性，并通过电阻率测量评估电学特性。
2：样品选择与数据来源：
使用商用Si(100)晶圆作为衬底。沉积前对样品进行清洗和离子刻蚀。通过调节氮分压制备不同相态的CrxNy薄膜。
3：实验设备与材料清单：
Balzers Sputtron II系统用于薄膜沉积，Philips EM 400T显微镜用于透射电镜分析，Bruker D8衍射仪用于X射线衍射分析，HORIBA-Jobin Yvon UVISEL 5光谱椭偏仪用于光学分析，四探针仪用于电阻率测量。
4：实验流程与操作步骤：
将衬底制备并装入沉积腔室，在室温下以不同氮分压沉积薄膜。沉积后对薄膜的结构、光学和电学特性进行分析。
5：数据分析方法：
采用XRD和TEM进行结构分析，RBS分析元素组成，光谱椭偏仪分析光学特性，四探针仪测量电阻率。
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