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[IEEE 2018年第38届电子与纳米技术国际会议（ELNANO）- 基辅（2018.4.24-2018.4.26）] 2018年IEEE第38届电子与纳米技术国际会议（ELNANO）- 薄铜膜结构与光学特性研究

DOI：10.1109/elnano.2018.8477448 出版年份：2018 更新时间：2025-09-23 15:23:52
摘要： 采用真空磁控溅射技术在多种工艺模式（沉积速率、工作压力、放电功率）下制备了铜纳米层。本文展示了沉积在石英、玻璃和硅基底上、厚度为1至65纳米的铜纳米薄膜的微观结构研究结果。研究了铜纳米薄膜在0.2微米至1.1微米波长范围内的透射和反射系数光谱。薄膜的透射和反射光谱与已知块体材料的光谱高度吻合。该研究成果对开发具有预设光学特性的纳米结构系统，以及设计用于光电子学、信息技术和节能技术的功能器件具有重要实际意义。
作者： B. Babych，O. Borisova，O. Machulianskyi，M. Rodionov，V. Verbitskiy，V. Machulianskyi，Y. Yakymenko
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

采用磁控溅射法制备铜纳米薄膜，并研究其微观结构和光学性能。

研究成果

铜纳米薄膜的微观结构和光学特性取决于工艺参数。石英基底上的岛状薄膜具有统计异质结构，需通过统计分析实现精确的参数估算。光谱显示特定波长（如0.25微米、0.32微米、0.48微米）的吸收带及等离子体振荡，与块体铜的特性相符。该结果有助于优化纳米结构体系在光电子学和节能技术领域的应用。

研究不足

该研究仅限于特定基底（石英、玻璃、硅）上厚度为1纳米至65纳米的铜纳米薄膜。光学测量在室温空气环境下进行，可能未考虑环境因素影响。岛状薄膜的统计异质性需要仔细分析以避免误差。光谱范围为0.2微米至1.1微米，未覆盖更宽波长。

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