1：实验设计与方法选择：

采用直流磁控溅射法在320°C下于钠钙玻璃上沉积VO?薄膜，以研究膜厚对性能的影响。该方法因能制备高致密性、大面积均匀涂层且具备工业化潜力而被选用。

2：样品选择与数据来源：

通过控制沉积时间制备了不同厚度（12、79、102、154、173、216、264纳米）的样品，使用台阶仪测量膜厚。

3：264纳米）的样品，使用台阶仪测量膜厚。 实验设备与材料清单：

3. 实验设备与材料清单：设备包括配备钒靶的直流磁控溅射系统、台阶仪（布鲁克Dektak XT）、X射线衍射仪（理学Ultima IV）、拉曼显微镜（堀场XploRA PLUS）、分光光度计（Lambda 950）、扫描电镜（蔡司Supra 5S Sapphire）、配Keithley 2400源表的四探针系统及珀尔帖加热台。材料包含钠钙玻璃基底、高纯度钒靶（99.99%）及氩氧气体。

4：0）、扫描电镜（蔡司Supra 5S Sapphire）、配Keithley 2400源表的四探针系统及珀尔帖加热台。材料包含钠钙玻璃基底、高纯度钒靶（99%）及氩氧气体。 实验流程与操作规范：

4. 实验流程与操作规范：真空腔抽至6×10??帕，预溅射10分钟，随后在0.5帕压强、120瓦功率、-125伏偏压及320°C条件下，以40标准立方厘米/分钟氩气和1.8标准立方厘米/分钟氧气进行溅射。通过调节沉积时间控制厚度。表征手段包括XRD、拉曼光谱、紫外/可见/近红外透射率测量、SEM成像及温控电阻率测试。

5：5帕压强、120瓦功率、-125伏偏压及320°C条件下，以40标准立方厘米/分钟氩气和8标准立方厘米/分钟氧气进行溅射。通过调节沉积时间控制厚度。表征手段包括XRD、拉曼光谱、紫外/可见/近红外透射率测量、SEM成像及温控电阻率测试。 数据分析方法：

5. 数据分析方法：通过谢乐公式分析XRD图谱的结晶度与晶粒尺寸；拉曼光谱用于识别振动模式；透射光谱计算可见光透射率与太阳能调制效率；电阻率数据绘图确定相变温度及滞后效应。