研究目的
提出一种利用纳米压印光刻技术制备大面积、高对比度、高透射率的线栅偏振器的低成本制造方法。
研究成果
采用纳米压印光刻（NIL）和原子层沉积（ALD）的低成本制备方法显示出偏振片工业应用的潜力，可实现约85%的高TM透射率、低至0.2%的TE透射率，以及对比度>450（峰值>3000）。
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22.3：利用纳米压印光刻技术低成本制备高对比度、高透射率的线栅偏振器
DOI：10.1002/sdtp.12689
期刊：SID Symposium Digest of Technical Papers
出版年份：2018
更新时间：2025-09-23 15:22:29
摘要：
本文提出了一种低成本制备大面积线栅偏振器（WGP）的新方法。作为传统后置偏振片和DBEF的潜在替代方案，WGP具有高对比度（CR）和高透射率的优点。目前WGP主要通过电子束直写技术制备，但该方法速度慢且成本高，不适用于大面积应用。随着纳米制造技术（如纳米压印光刻NIL）的发展，可实现大面积WGP的低成本快速制备。此外，通过卷对卷（R2R）纳米压印还能制造柔性偏振器。本文将通过纳米制造实现一种在可见光谱范围内TM透射率约85%、TE透射率低至0.2%的高性能WGP，其对比度可达>450（峰值>3000）。制备过程中将采用原子层沉积（ALD）技术制作压印掩模，从而实现对目标结构的高度精密控制。论文后半部分还将阐述所设计WGP的特性表征，包括透射率、对比度及SEM示意图。我们认为这种低成本制备方法未来有望应用于偏振器的工业化生产。
作者：
Dun-Hang Quan，Xing Cheng，Hoi-Sing Kwok
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