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[Lecture Notes in Networks and Systems] Advances in Engineering Research and Application Volume 63 (Proceedings of the International Conference, ICERA 2018) || Comparison Between DC and HiPIMS Discharges. Application to Nickel Thin Films

DOI：10.1007/978-3-030-04792-4_27 出版年份：2019 更新时间：2025-09-23 15:21:01
摘要： The study deals with a comparison between Direct Current (DC) and High Power Impulse Magetron Sputtering (HiPIMS) processes. We have ?rst highlighted that the plasma of the DC discharge is composed mainly of gaseous species whereas the HiPIMS discharge leads to a plasma dominated by metal vapor and characterized by the presence of charged species of strong and low energy. For thin nickel (Ni) ?lms, we have found the the use of HiPIMS produce denser and better crystallized layers improving the uniformity of the coating on substrates with complex geometries.
作者： J. Keraudy，D. T. Nguyen，A. Ferrec，P-Y. Jouan
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研究概述 实验方案 设备清单

研究目的

Comparison between Direct Current (DC) and High Power Impulse Magetron Sputtering (HiPIMS) processes for nickel thin films deposition.

研究成果

HiPIMS technology produces denser and better crystallized nickel thin films with improved uniformity on substrates with complex geometries compared to DC technology.

研究不足

The deposition rates in HiPIMS are low, which could be a limitation for industrial transfer.

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