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利用光谱椭偏仪观测金薄膜的光学特性
摘要： 在这项研究工作中，我们尝试采用三种沉积技术（直流磁控溅射、脉冲直流磁控溅射和脉冲激光沉积）在二氧化硅（SiO2）包覆的硅（Si）基底上合成纳米结构金薄膜。通过光谱椭偏仪进行的光学测量显示，不同合成方法制备的薄膜介电常数存在差异。这是预期之中的结果，因为不同合成方法会产生不同的微观结构。微观结构的差异导致电子结构不同，进而造成光学响应的差异。
关键词： 椭圆偏振光谱法、掠入射X射线衍射、金薄膜、赝介电函数
更新于2025-09-23 15:19:57
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纳米晶Hg1-xMnxO稀磁半导体薄膜的光谱椭偏仪与形貌表征
摘要： 采用电子束沉积技术制备的纳米晶Hg1-xMnxO（0 ≤ x ≤ 0.2）稀磁半导体薄膜的结构、光学椭偏光谱及形貌特性，通过X射线衍射（XRD）、椭偏光谱（SE）和原子力显微镜（AFM）技术进行了研究。所有沉积薄膜均呈六方晶系结晶。X射线与原子力显微镜数据的整合显示，沉积薄膜具有优异的纳米尺寸特性。表面粗糙度方面，椭偏光谱与原子力显微镜测量结果高度吻合。在200-1200 nm光谱范围内，通过椭偏光谱测量获得了纳米晶Hg1-xMnxO薄膜的介电常数实部（ε1）和虚部（ε2）。固定能量值时，ε1（即折射率）随Mn2+掺杂浓度增加而降低；相反，由ε2确定的薄膜带隙（Eg）则随Mn2+浓度升高而增大?；诼迓鬃?洛伦茨关系和sp-d交换相互作用，分别阐释了ε1和Eg随Mn2+浓度变化的规律。研究表明，Mn掺杂HgO纳米晶薄膜可用于纳米级光学和磁光器件的制备。
关键词： 原子力显微镜、气相沉积、椭圆偏振光谱法、光学特性、半导体、原子力显微镜、光学材料、纳米结构材料、薄膜、X射线衍射
更新于2025-09-23 06:54:41
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多层纳米级[Co/TiO2]n薄膜的光学与磁光特性
摘要： 通过离子束沉积法在硅衬底Si(001)上制备了层厚2-4纳米的金属-介质多层[Co/TiO2]n结构，研究了其光学与磁光特性。采用光学椭偏仪技术在0.6-5.6电子伏特光谱范围内测量该多层结构的复介电常数，并结合各向同性多层介质结构的光学反射矩阵（考虑光学损耗）及各向异性有效介质方法进行分析。通过偏振测量技术在1.2-4.5电子伏特光谱范围内，以极向和纵向几何构型测量磁光克尔效应?；诖殴饪硕вΦ某∫览倒叵等范舜鸥飨蛞煨岳嘈汀Ｑ芯糠⑾郑庵帜擅准禰Co/TiO2]n结构可视为室温下具有强磁性与光学各向异性的人工光学单轴介质。
关键词： 硅衬底、Co/TiO?、磁光特性、多层纳米薄膜、光学特性、复介电常数、磁光克尔效应、磁各向异性、椭圆偏振光谱法、离子束沉积
更新于2025-09-10 09:29:36
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反应溅射制备的CrxNy薄膜的结构、光学及电学特性：氮对相形成的影响
摘要： 通过直流（DC）反应溅射工艺，在不同氮分压（0、2×10??、3.5×10??和5×10??毫巴）条件下制备了多种CrxNy薄膜，并研究了其特性。采用X射线衍射和透射电子显微镜（TEM）进行样品结构分析，利用卢瑟福背散射谱进行元素分析。通过改变氮分压，分别获得了纯铬层、铬/氮化铬(II)/氮化铬混合相层以及单一相氮化铬层。TEM分析显示当氮分压为2×10??毫巴时，薄膜具有致密微观结构；而最高氮分压沉积的薄膜则呈现明显柱状结构?；谕制鞘?，采用德鲁德模型或德鲁德-陶克-洛伦兹联合模型评估了CrxNy薄膜的光学特性，发现折射率和消光系数均与沉积过程中主导相形成（铬、氮化铬(II)、氮化铬）密切相关。电学研究表明氮化铬(II)相呈现金属性质，氮化铬相则具有半导体特性。
关键词： 椭圆偏振光谱法、薄膜、氮化铬、电学性能、微观结构
更新于2025-09-09 09:28:46